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J-GLOBAL ID:201802266383022994   整理番号:18A1028544

CdTeにおけるCuドーピングの形成と自己補償機構を研究するための拡散反応シミュレーションの使用【JST・京大機械翻訳】

Using diffusion-reaction simulation to study the formation and self-compensation mechanism of Cu doping in CdTe
著者 (9件):
資料名:
巻: 2017  号: PVSC  ページ: 1-4  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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Cu(i)-Cu(Cd)とCd(i)-Cu(Cd)錯体に関連する機構を説明するCdTe吸収体における銅p型ドーピングの改良モデルを提案した。これは拡散を制限し,Cu種の自己補償を引き起こす。この新しいモデルは,以前の研究で報告されたCuのDFT計算と適合拡散パラメータの間の明らかな矛盾を説明し,CdTe PVデバイスにおける性能と準安定性のより良い理解を可能にした。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【JST・京大機械翻訳】
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太陽電池 

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