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J-GLOBAL ID：201802266475432368   整理番号：18A0827625

薄膜のジヒドロキシ-ヘキサヘリセン 構造特性化と光電気化学特性

Dihydroxy-hexahelicene in Thin Films; Structural Characterization and Photoelectrochemical Properties

著者 (9件)： Kayes Md. Nazmul (Graduate School of Engineering, Utsunomiya University) ,  Kayes Md. Nazmul (Department of Chemistry, University of Barisal) ,  Miah Md Jalil (Department of Mechanical and Chemical Engineering, Islamic University of Technology) ,  Shahabuddin Mohammad (Graduate School of Engineering, Utsunomiya University) ,  Karikomi Michinori (Graduate School of Engineering, Utsunomiya University) ,  Yoshihara Sachio (Graduate School of Engineering, Utsunomiya University) ,  Nasuno Eri (Graduate School of Engineering, Utsunomiya University) ,  Kato Norihiro (Graduate School of Engineering, Utsunomiya University) ,  Iimura Ken-ichi (Graduate School of Engineering, Utsunomiya University)
資料名： Transactions of the Materials Research Society of Japan  (Transactions of the Materials Research Society of Japan)
巻： 43  号： 2  ページ： 57-60(J-STAGE)  発行年： 2018年 
JST資料番号： L4468A  ISSN： 1382-3469  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 縮合多環2,15-ジヒドロキシヘキサヘリセン(HELIXOL)を用いて,Langmuir-Blodgett(LB)及びスピンコーティング(SP)法により薄膜を調製し,それらの構造及び光電気化学特性を調べた。原子間力顕微鏡(AFM)観察により,分子は親水性-OH基と疎水性芳香環の両方を有するが,均一な単分子層はLB法により形成されず,これは分子の十分な親水性の欠如に起因する可能性があることを示した。一方,均一な厚さの膜はSP法により形成されたが,多くの孔が溶媒蒸発過程におけるHELIXOL分子の凝集により最も起こりやすいことが分かった。最高被占分子軌道(HOMO)と最低非占有分子軌道(LUMO)間のエネルギー差をサイクリックボルタンメトリー(CV)により推定し,光学バンドギャップエネルギーを紫外可視スペクトルから決定した。光電流発生は,従来の3電極システムによる周期的光照射実験によっても確認された。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *芳香族縮合炭化水素 ,  *有機半導体 ,  特性 ,  Langmuir-Blodgett膜 ,  スピンコーティング ,  光学ギャップ ,  光電流 ,  光照射 ,  光起電素子 ,  半導体薄膜 ,  単分子層 ,  膜厚 ,  等温線 ,  微細構造 ,  表面粗さ ,  電子密度
準シソーラス用語： HOMO-LUMOギャップ ,  *ヘリセン類 ,  光電気化学特性 ,  表面圧-面積等温線

著者キーワード (5件)： ジヒドロキシ-ヘキサヘリセン ,  有機半導体 ,  等温線 ,  薄膜 ,  光電流

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： 2,15-ジヒドロキシヘキサヘリセン

引用文献 (25件)：

• [1] J. Nelson, Current Opinion in Solid State and Materials Science, 6, 87-95 (2002).
• [2] D. Choi, P. H. Chu, M. McBride, E. Reichmanis, Chem. Mater., 27, 4167-4168 (2015).
• [3] J. Clark, G. Lanzani, Nat. Photon., 4, 438-446 (2010).
• [4] S. H. Park, A. Roy, S. Beaupré, S. Cho, N. Coates, J. S. Moon, D. Moses, M. Leclerc, K. Lee, A. J. Heeger, Nat. Photon., 3, 297-303 (2009).
• [5] S. Kim, T. Lim, K. Sim, H. Kim, Y. Choi, K. Park, S. Pyo, ACS Appl. Mater. Interfaces, 3, 1451-1456 (2011).

タイトルに関連する用語 (4件)： 薄膜 ,  ヘキサヘリセン ,  構造特性 ,  光電気化学特性