文献

J-GLOBAL ID：201802267586668420   整理番号：18A0483566

可視光下での染料と塩酸テトラサイクリンの光触媒分解のためのAg_3VO_4/AgI複合材料【Powered by NICT】

Ag₃VO₄/AgI composites for photocatalytic degradation of dyes and tetracycline hydrochloride under visible light

著者 (3件)： Zhang Junlei (Shanghai Key Laboratory of Atmospheric Particle Pollution and Prevention (LAP3), Department of Environmental Science and Engineering, Fudan University, Shanghai 200433, PR China) ,  Ma Zhen (Shanghai Key Laboratory of Atmospheric Particle Pollution and Prevention (LAP3), Department of Environmental Science and Engineering, Fudan University, Shanghai 200433, PR China) ,  Ma Zhen (Shanghai Institute of Pollution Control and Ecological Security, Shanghai 200092, PR China)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 216  ページ： 216-219  発行年： 2018年 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 異なるAg_3VO_4/AgIモル比を有するAg_3VO_4/AgI複合材料を逐次沈殿によって調製した。これら複合材料は可視光照射下で水性染料とテトラサイクリン塩酸塩の光分解におけるAg_3VO_4とAgIより高活性であった。1/20のAg_3VO_4/AgIモル比Ag_3VO_4/AgIは最高の光触媒活性と良好なリサイクル性を示した。Ag_3VO_4/AgIの改善された光触媒活性は,光生成電子-正孔対の効率的な分離に起因すると考えられる。可能な光触媒機構を提案した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *複合材料 ,  光分解 ,  モル比 ,  電子正孔対 ,  光生成 ,  リサイクル ,  *可視光 ,  *光触媒 ,  *染料 ,  エノール ,  芳香族ケトン ,  フェノール類 ,  カルボアミド ,  エノン ,  芳香族縮合化合物 ,  アミノアルコール ,  ケト酸 ,  ジケトン ,  第三アミン ,  ヒドロキシ酸 ,  ヒドロキシケトン ,  ポリオール
準シソーラス用語： 光触媒活性 ,  塩酸塩 ,  可視光照射 ,  *光触媒分解 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Ag_3VO_4/AgI ,  複合材料 ,  展望 ,  Dyes ,  塩酸テトラサイクリン

分類 (3件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  塩  (CD01050V) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

物質索引 (2件)： テトラサイクリン ,  塩酸テトラサイクリン

タイトルに関連する用語 (6件)： 可視光 ,  染料 ,  塩酸テトラサイクリン ,  光触媒分解 ,  AgI ,  複合材料