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J-GLOBAL ID：201802268625365047   整理番号：18A1482830

ラボチップ応用のためのシリコンプラズモン集積干渉計センサ【JST・京大機械翻訳】

Silicon plasmonic integrated interferometer sensor for lab on chip applications

著者 (4件)： Ayoub Ahmad B. (Department of Physics, American University in Cairo, New Cairo, Egypt) ,  Ji Dengxin (Electrical and Computer Engineering Department, University at Buffalo, NY, USA) ,  Gan Qiaoqiang (Electrical and Computer Engineering Department, University at Buffalo, NY, USA) ,  Swillam Mohamed A. (Department of Physics, American University in Cairo, New Cairo, Egypt)
資料名： Optics Communications  (Optics Communications)
巻： 427  ページ： 319-325  発行年： 2018年 
JST資料番号： A0678B  ISSN： 0030-4018  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコンプラットフォーム上のセンシング構造を,アクセスシリコン導波路ポートを用いて提案した。センシング機構は主に両干渉に対するSPP波間の干渉効果に基づいている。センシングプラットフォームは窒化ケイ素ベース上に堆積した金属チャネルを含む。上部および底部金属表面は,2つの分離SPPモードを運んだ。トップおよびボトム金属界面における入力シリコン導波路からSPP波への結合を最大化するために,寸法を最適化した。この集積した簡単なプラズモン設計を用いて,高感度で小さな足プリントを達成した。全波解析を行い,性能を調べ,寸法と材料を最適化した。最適化された設計と最適な材料は,19400nm/RIUの感度を強化した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 高感度 ,  界面 ,  チャネル ,  *センサ ,  *干渉計 ,  窒化ケイ素 ,  *ケイ素 ,  *干渉 ,  全波解析 ,  導波路 ,  *プラズモン ,  最適化 ,  ポート
準シソーラス用語： *ラボオンチップ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： plasクス ,  表面プラズモン ,  干渉 ,  センシング

分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  干渉測定と干渉計  (BD07070G)

タイトルに関連する用語 (6件)： ラボチップ ,  応用 ,  シリコン ,  プラズモン ,  集積 ,  干渉計