高温酸化による多層構造を利用した真空ゾルゲル法によるTiO<sub>2</sub>/SiO<sub>2</sub>複合被膜の創製

三浦永理; 三浦永理; 原田大志; 田中良宣; 菊池丈幸; 菊池丈幸; 山崎徹; 山崎徹

文献

J-GLOBAL ID：201802268687267653 整理番号：18A0556760

高温酸化による多層構造を利用した真空ゾルゲル法によるTiO₂/SiO₂複合被膜の創製

Fabrication of TiO₂/SiO₂ Composite Coating via a High-Temperature Self-Organizing Porous TiO₂ Layer on Ti

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資料名：
巻： 82 号： 3 ページ： 70-77(J-STAGE) 発行年： 2018年
JST資料番号： G0023A ISSN： 0021-4876 CODEN： NIKGAV 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

著者らはTi上にTiO₂/SiO₂複合被覆の製造を調べた。酸素分圧のある1100K以上の温度で,ルチル相TiO₂の自己組織化被覆をTi基材上に形成している。厚いTiO₂被覆(>10μm)は”パイの皮状”の多層構造を持ち,これはTiO₂ナノ層と間隙からなっている。SiO₂を含む複合被覆を,脆弱で多孔質なTiO₂被覆の剥離強度を改善するために真空中でのゾル-ゲル法によって製造した。断面SEM画像が,TiO₂/SiO₂複合被覆中のTiO₂単層の間の間隙に,酸化物被覆と基材の間の界面であっても,多量のSiO₂を見出した。複合被覆の剥離応力は自己組織化TiO₂被覆単独のものより10~15倍まであり,複合被覆の破壊モードは,自己組織化TiO₂被覆についての凝集破壊と比較して界面的であった。(翻訳著者抄録)

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酸化物薄膜 , セラミック・磁器の性質

引用文献 (28件)：

1) H. Nakajima, N. Nishiyama, T. Miyazaki and T. Yoneyama: Standard Shika Riko Gaku, 6th ed., (Gakken Shoin, Tokyo, Japan, 2016) pp. 1-5.
2) Y. Tanaka, I. Watanabe, E. Miura, T. Shiraishi and H. Hisatsune: Proc. 4th Pacific Rim Int. Conf. on Advanced Materials and Processing (PRICM4), (The Japan Institute of Metals, 2001) pp. 265-268.
3) Y. Tanaka, I. Watanabe, E. Miura, T. Shiraishi, M. Atsuta and K. Hisatsune: Journal of Dental Research 80 Special Issue(2001) 661.
4) E. Miura, L. Jie, I. Watanabe, Y. Tanaka, T. Shiraishi and K. Hisatsune: J. Japan Inst. Metals 65(2001) 819-822.
5) Y. Tanaka, I. Watanabe, E. Miura, T. Shiraishi, M. Atsuta and H. Hisatsune: Journal of Dental Research 79 Special Issue(2000) 271.

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高温酸化による多層構造を利用した真空ゾルゲル法によるTiO2/SiO2複合被膜の創製

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