文献

J-GLOBAL ID：201802268870164005   整理番号：18A0295171

汚染されたHTVシリコーンゴムの疎水性を改善するためのプラズマジェットアレイ処理【JST・京大機械翻訳】

Plasma jet array treatment to improve the hydrophobicity of contaminated HTV silicone rubber

資料名： Dengliziti Kexue he Jishu(Yingwenban)  (Dengliziti Kexue he Jishu(Yingwenban))
巻： 19  号： 10  ページ： 75-82  発行年： 2017年 
JST資料番号： C2608A  ISSN： 1009-0630  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,HTVシリコーンゴム処理用に特別に設計された大気圧プラズマジェットアレイを報告した。高エネルギーの活性粒子を含む安定なプラズマをプラズマジェットアレイにおいて均一に生成した。放電パターンは印加電圧によって影響を受けた。発散現象は,低いガス流速で観察され,流量が増加したときに除去された。プラズマプルームの温度は室温に近く,温度に敏感な材料処理に適している。汚染されたHTVシリコーンゴムの疎水性は,プラズマジェット配列の迅速な曝露の後に著しく改善され,有効な処理領域は120mm×50mm(長さ×幅)に達した。プラズマ中の反応性粒子は疎水性分子,すなわち,低分子量シリコーン鎖の蓄積を加速し,それはHTVシリコーンゴムの疎水性改善をもたらす。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *プラズマジェット ,  低分子量 ,  *シリコーンゴム ,  *プラズマ ,  反応性 ,  放電 ,  流量 ,  流速 ,  *疎水性
準シソーラス用語： 関心領域 ,  プラズマプルーム ,  印加電圧 ,  活性粒子 ,  高エネルギー ,  大気圧プラズマジェット , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (6件)： 汚染 ,  HTV ,  シリコーンゴム ,  疎水性 ,  プラズマジェット ,  アレイ処理