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J-GLOBAL ID：201802269215856005   整理番号：18A1705558

イオン基を有するアルコキシシランを用いた界面活性剤フリー法による疎水性ポリメチルシルセスキオキサンエアロゲルの作製

Fabrication of hydrophobic polymethylsilsesquioxane aerogels by a surfactant-free method using alkoxysilane with ionic group

著者 (7件)： HAYASE Gen (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  NAGAYAMA Shuya (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  NONOMURA Kazuya (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KANAMORI Kazuyoshi (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  MAENO Ayaka (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KAJI Hironori (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  NAKANISHI Kazuki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名： Journal of Asian Ceramic Societies (Web)  (Journal of Asian Ceramic Societies (Web))
巻： 5  号： 2  ページ： 104-108 (WEB ONLY)  発行年： 2017年06月 
JST資料番号： U1450A  ISSN： 2187-0764  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ・・相分離を制御するために共前駆体として疎水性アルコキシシランを用いてポリメチルシルセスキオキサン(PMSQ)エアロゲルを界面活性剤フリーで合成することを報告。
・出発成分の一つとして四級アンモニウムクロリド部位を有する少量のN-トリメトキシシリル-N,N,N-トリメチルアンモニウムクロリド(TMAC)の存在下でメチルトリメトキシシランによりPMSQエアロゲルを合成。
・TMACによって導入されたイオン部位が疎水性PMSQネットワーク中に局所的親水性部分を与えると考えられ,それが水性ゾル-ゲル媒体中で巨視的相分離に寄与し,均質微細構造を積層ゲルの作製を可能することと考察。

シソーラス用語： 無機酸エステル ,  *ポリシルセスキオキサン ,  *エアロゲル ,  *ゾル-ゲル法 ,  多孔質体 ,  塩化アンモニウム ,  微細構造 ,  相分離 ,  *界面活性剤
準シソーラス用語： アルコキシシラン ,  ポリメチルシルセスキオキサン ,  アンモニウムクロリド

分類 (2件)： 無機重合体  (YH07140R) ,  応用物理化学的操作・装置  (XE03000E)

物質索引 (1件)： メチルトリメトキシシラン

タイトルに関連する用語 (5件)： イオン基 ,  アルコキシシラン ,  界面活性剤 ,  疎水性 ,  作製