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J-GLOBAL ID：201802269465353586   整理番号：18A1512354

オプトエレクトロニクスシステム解析のための準線形マイクロ波測定【JST・京大機械翻訳】

Quasi-linear Microwave Measurements for Optoelectronic Systems Analysis

著者 (1件)： Martens J. (Anritsu Company, Morgan Hill, CA, US)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018  号： INMMIC  ページ： 1-3  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光電子システムのモデル開発と解析は,相互変調歪(IMD),圧縮(AM-AMおよびAM-PM),および関連解析を含む準線形および非線形測定をますます必要とする。測定概念は新しいものではないが,変調領域で生じることを除いて,システムモデルを完成させるが,データの不確実性と解釈を変えることができる付加的な光電子特異的パラメータと機構がある。本論文では,二次光注入,偏光分散およびバイアス系の詳細に対してパラメータ化した集積マイクロ波光学系(100GHz以上のRF変調周波数を含む)について,古典的マイクロ波/ミリ波装置よりわずかに高い不確実性を持つ装置を調べた。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 偏光 ,  光学系 ,  *線形性 ,  *オプトエレクトロニクス ,  *マイクロ波測定 ,  EHF波 ,  システムモデル ,  バイアス ,  パラメタリゼーション ,  *マイクロ波 ,  光電子 ,  不確実性
準シソーラス用語： 光注入 ,  関連解析 ,  相互変調歪 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (4件)： オプトエレクトロニクス ,  システム解析 ,  線形 ,  マイクロ波測定