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J-GLOBAL ID：201802269561533842   整理番号：18A1567809

触媒ぎ酸蒸気による銅表面の低温脱酸化【JST・京大機械翻訳】

Low temperature de-oxidation for copper surface by catalyzed formic acid vapor

著者 (9件)： Chou Pei-Wen (Department of Materials Science and Engineering, National Chung Hsing University, Taichung 402, Taiwan) ,  Song Jenn-Ming (Department of Materials Science and Engineering, National Chung Hsing University, Taichung 402, Taiwan) ,  Song Jenn-Ming (Research Center for Sustainable Energy and Nanotechnology, National Chung Hsing University, Taichung 402, Taiwan) ,  Song Jenn-Ming (Innovation and Development Center of Sustainable Agriculture, National Chung Hsing University, Taichung 402, Taiwan) ,  Xie Zong-Yu (Department of Materials Science and Engineering, National Chung Hsing University, Taichung 402, Taiwan) ,  Akaike Masatake (Department of Precision Engineering, The University of Tokyo, Bunkyo, Tokyo 113-8656, Japan) ,  Suga Tadatomo (Department of Precision Engineering, The University of Tokyo, Bunkyo, Tokyo 113-8656, Japan) ,  Fujino Masahisa (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Ibaraki, Tsukuba 305-8555, Japan) ,  Lin Jing-Yuan (Microsystems Technology Center, Industrial Technology Research Institute, Hsinchu 310, Taiwan)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 456  ページ： 890-898  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究は,反応速度論と機構の観点から,Pt触媒による改質ギ酸蒸気処理を用いて,酸化銅の低温還元を研究した。その場FTIRを用いて,触媒ギ酸蒸気下での有機配位子と酸化銅表面の発生をモニターした。350nm厚のCu_2Oを完全に効率的に160°Cで純銅に変換できた。電子常磁性共鳴の解析結果は,HC00Hが容易に分解され,Ptによる触媒作用を通して水素ラジカルを形成できることを立証する。最大量の水素ラジカルを生成する150°Cの最適触媒温度を示唆した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ESR【磁気共鳴】 ,  酸化銅 ,  白金 ,  反応速度論 ,  *低温 ,  *触媒 ,  *脱酸素 ,  *銅 ,  FTIR分光法 ,  白金触媒 ,  水素ラジカル ,  純銅 ,  有機配位子 ,  脂肪族カルボン酸
準シソーラス用語： 触媒作用 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 脱酸 ,  ギ酸蒸気 ,  Pt触媒 ,  FTIR ,  動力学 ,  水素ラジカル

分類 (5件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  電極過程  (CB07040U) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  その他の無触媒反応  (CB06070U)

物質索引 (1件)： ギ酸

タイトルに関連する用語 (6件)： 触媒 ,  ぎ酸 ,  蒸気 ,  銅 ,  低温 ,  脱酸