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J-GLOBAL ID：201802269618592653   整理番号：18A0941728

シリカフォトニック結晶膜の光反射に及ぼす酸化グラフェン包接の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of graphene oxide inclusion on the optical reflection of a silica photonic crystal film

著者 (6件)： Lee Cheng Hao (Department of Applied Biology and Chemical Technology, The Hong Kong Polytechnic University, Hung Hom, Kowloon, Hong Kong SAR, China) ,  Yu Jiali ,  Wang Yanming ,  Tang Alan Yiu Lun ,  Kan Chi Wai ,  Xin John H.
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 8  号： 30  ページ： 16593-16602  発行年： 2018年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,シリカフォトニック結晶中の酸化グラフェンの包接が,光反射強度と反射率ピークの広がりに影響することが分かった。光GO修飾フォトニック結晶の重量パーセントと反射光強度と対応する波長シフトの間の定量的関係を研究し,GOベースのフォトニック結晶膜の反射防止被覆の合理的な設計に有用なパラメータを提供した。純粋なSiO_2粒子膜との実験結果の比較は,固定酸化グラフェン重量パーセントを組み込んだSiO_2粒子表面層が,ピークの広がりと反射率強度の減少をもたらすことを示した。反射率強度の減少の割合は,構造化された色膜表面によって示されるように,粒子サイズの関数であり,フォトニック結晶膜の反射防止特性に及ぼす異なる酸化グラフェン含有率の影響を推定する可能性を実証した。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *二酸化ケイ素 ,  粒度 ,  *フォトニック結晶 ,  構造形成 ,  表層 ,  *光反射 ,  反射防止膜 ,  反射率
準シソーラス用語： 反射防止 ,  粒子膜 ,  一酸化ケイ素 ,  波長シフト ,  反射強度 ,  *酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 分子化合物  (CE02000C)

タイトルに関連する用語 (4件)： シリカ ,  フォトニック結晶 ,  光反射 ,  酸化グラフェン