文献
J-GLOBAL ID:201802270113622153   整理番号:18A0585481

高周波500nsパルス電場に暴露された多細胞系のエレクトロポレーションシミュレーション【Powered by NICT】

Electroporation simulation of a multicellular system exposed to high-frequency 500 ns pulsed electric fields
著者 (5件):
資料名:
巻: 24  号:ページ: 3985-3994  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0578A  ISSN: 1070-9878  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
高繰返し周波数をもつナノ秒パルス電場(nsPEFs)は腫瘍治療のための潜在的なより良い臨床適用可能性を検討した。しかし,高周波多重パルスプロトコルの生物物理学的機構は現在不明である。本研究では,131×121μmのスケールを持つ多細胞モデルを用いて,パルス数の増加に伴い細孔数と細孔半径の蓄積を評価することであった。多細胞系はSmoluchowski方程式(SE)エレクトロポレーションモデルと組み合わせた輸送格子モデルに基づいて確立とPspiceとMatlabを用いて解いた。異なる磁場強度(3kV/cm,5kV/cm及び10kV/cm)と異なる周波数(100kHz,500kHz,1MHz)の10単極高周波500nsパルスの下でのシステムの過渡的および空間的応答を分析した。結果はパルスの数の増加と共に,より高い強度場を適用した場合に細孔数は基本的に同じであったがその値は大きいことを示した。細孔変化した異なる磁場強度で類似していた。しかし,パルス周波数は細孔半径の変化に大きな影響を与えた。細孔半径成長効果は,その短いパルス間隔のために高頻度でより明白であった。ここに示した結果は,高周波数ナノ秒パルスによる腫瘍治療の機構に対する理論的支持を提供する。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
生体膜一般 
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る