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J-GLOBAL ID：201802271147950243   整理番号：18A0910847

シリコーン油とオゾンガスを用いて堆積させた低温酸化ケイ素膜中における添加トリクロロエチレン濃度に対する堆積速度とOH含有量の依存性

Dependences of deposition rate and OH content on concentration of added trichloroethylene in low-temperature silicon oxide films deposited using silicone oil and ozone gas

著者 (2件)： HORITA Susumu (Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN) ,  JAIN Puneet (Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57  号： 3S1  ページ： 03DA02.1-03DA02.7  発行年： 2018年03月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *シリコーン油 ,  *オゾン ,  *薄膜成長 ,  *堆積速度 ,  *ヒドロキシ基 ,  化学蒸着 ,  表面構造 ,  *酸化ケイ素 ,  *低温成長 ,  表面形態 ,  構造 ,  脂肪族塩素化合物 ,  オレフィン化合物
準シソーラス用語： CVD【化学蒸着】 ,  オゾンガス

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

物質索引 (1件)： トリクロロエチレン

タイトルに関連する用語 (9件)： シリコーン油 ,  オゾンガス ,  堆積 ,  低温 ,  酸化ケイ素膜 ,  トリクロロエチレン ,  堆積速度 ,  含有量 ,  依存性