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J-GLOBAL ID：201802271284540089   整理番号：18A1914486

AlドープSrTiO₃の水分解活性と耐久性に対する表面修飾の効果

著者 (10件)： 東智弘 (東大) ,  LYU Hao (東大) ,  久富隆史 (信州大) ,  吉田真明 (山口大) ,  高田剛 (信州大) ,  片山正士 (東大) ,  嶺岸耕 (東大) ,  朝倉清高 (北大) ,  堂免一成 (東大) ,  堂免一成 (信州大)
資料名： 触媒討論会討論会A予稿集  (触媒討論会(A)講演予稿集)
巻： 122nd  ページ： 107  発行年： 2018年09月19日 
JST資料番号： S0874A  ISSN： 1343-9936  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： AlドープSrTiO₃(STO:Al)の水分解活性と長時間耐久性の向上を目的とし,助触媒の共担持と保護層導入の効果を検討した。水素生成用と酸素生成用の助触媒にRhCrOxとCoOOHを共担持し,アモルファスTiO₂層を修飾した。これら表面修飾を施したSTO:Alは,300WXeランプ光およびAM1.5G光の照射下で,安定に水を水素と酸素へ分解することができた。(著者抄録)

シソーラス用語： *アルミニウム ,  *ドーピング ,  *耐久性 ,  表面改質 ,  *チタン酸ストロンチウム ,  助触媒 ,  水素発生反応 ,  酸素発生 ,  *ロジウム化合物 ,  *クロム化合物 ,  非晶質 ,  *光分解 ,  *光触媒 ,  フラックス法 ,  触媒調製 ,  含浸 ,  担持触媒 ,  電着 ,  ガスクロマトグラフィー ,  反応速度 ,  X線光電子スペクトル ,  *触媒活性 ,  *酸化コバルト ,  添加物効果
準シソーラス用語： *水分解 ,  光電着

分類 (2件)： その他の触媒  (CB06123Z) ,  光化学反応  (CB08020F)

タイトルに関連する用語 (5件)： Al ,  ドープ ,  水分解 ,  活性 ,  表面修飾