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J-GLOBAL ID：201802271531539050   整理番号：18A1138462

水熱成長Ga-F共ドープZnOナノ構造の物理と形態特性に及ぼすUV誘起オゾン処理の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of UV-induce ozone treatment on physics and morphological properties of hydrothermally grown Ga-F-codoped ZnO nanostructure

著者 (2件)： Mekla Vatcharinkorn (Program of Physics, Faculty of Science,Ubon Ratchathani Rajabhat University, Ubon Ratchathani 34000, Thailand) ,  Boonyarattanakalin Kanokthip (College of Nanotechnology,King Mongkut”s Institute of Technology Ladkrabang, Bangkok 10520 Thailand)
資料名： Materials Today: Proceedings  (Materials Today: Proceedings)
巻： 5  号： 6 P1  ページ： 14209-14213  発行年： 2018年 
JST資料番号： W3531A  ISSN： 2214-7853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ga/F共ドープZnナノロッドの物理的及び形態的構造に及ぼす紫外線オゾン処理(UVO処理)の影響を調べた。ZnOシード層を,0.5Mの濃度を有する絶対エタノール(C_2H_5OH)中への酢酸亜鉛脱水(CH_3C00)_2Zn ・_2H_2Oおよびジエタノールアミン((HOCH_2CH_2)_2NH,DEA)に基づくゾル-ゲル浸漬被覆法によって調製した。播種溶液を洗浄ガラス基板上に浸漬被覆した。G/F共ドープZnOナノロッドを水熱プロセスにより合成した。G/F共ドープZnOナノロッドを,2,4,6,8,10,12,14,16および18分で,種々の紫外線オゾン処理により,シード層上に成長させた。G/F共ドープZnOナノロッドの物理的,光学的および形態に及ぼす紫外線オゾン処理の影響を,X線回折(XRD)および光学分光法,UV-可視分光光度計(UV-vis)および電界放出走査電子顕微鏡(FE-SEM)によって広範囲に精査した。種々の密度のGa/F共ドープZnOナノロッドに及ぼす紫外線オゾン処理の影響を,種々の紫外線オゾン処理を導入して得た。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *オゾン ,  紫外線 ,  ゾル-ゲル法 ,  スペクトロスコピー ,  X線回折 ,  ナノロッド ,  *ドーピング ,  *オゾン処理 ,  *酸化亜鉛 ,  *形態
準シソーラス用語： 電界放出型走査電子顕微鏡 ,  酸化亜鉛ナノロッド ,  ガラス基板 ,  浸漬被覆 ,  シード層 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： ZnOナノ構造 ,  水熱プロセス ,  紫外線オゾン

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (10件)： 水 ,  成長 ,  Ga ,  ドープ ,  ZnO ,  ナノ構造 ,  物理 ,  形態特性 ,  誘起 ,  オゾン処理