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J-GLOBAL ID：201802271879583425   整理番号：18A1351371

50keV以上の加工多孔質材料によるX線位相コントラスト撮像【JST・京大機械翻訳】

X-ray phase-contrast imaging with engineered porous materials over 50 keV

著者 (16件)： Wang Hongchang (Diamond Light Source, Harwell Science & Innovation Campus, DidcotOX11 0DE, UK) ,  Cai Biao (School of Metallurgy and Materials, University of Birmingham, BirminghamB15 2TT, UK) ,  Pankhurst Matthew James (School of Materials, University of Manchester, ManchesterM13 9PL, UK) ,  Pankhurst Matthew James (Research Complex at Harwell, Rutherford Appleton Laboratory, Harwell, OxfordshireOX11 0FA, UK) ,  Pankhurst Matthew James (School of Earth and Environment, University of Leeds, LeedsLS29 9ET, UK) ,  Pankhurst Matthew James (Instituto Technologico y de Energias Renovables (ITER), 38900 Granadilla de Abona, Tenerife, Canary Islands, Spain) ,  Pankhurst Matthew James (Instituto Volcanologico de Canaries (INVOLCAN), 38400 Puerto de la Cruz, Tenerife, Canary Islands, Spain) ,  Zhou Tunhe (Diamond Light Source, Harwell Science & Innovation Campus, DidcotOX11 0DE, UK) ,  Kashyap Yogesh (Technical Physics Division, Bhabha Atomic Research Centre, Mumbai400085, India) ,  Atwood Robert (Diamond Light Source, Harwell Science & Innovation Campus, DidcotOX11 0DE, UK) ,  Le Gall Nolwenn (School of Materials, University of Manchester, ManchesterM13 9PL, UK) ,  Le Gall Nolwenn (Research Complex at Harwell, Rutherford Appleton Laboratory, Harwell, OxfordshireOX11 0FA, UK) ,  Lee Peter (School of Materials, University of Manchester, ManchesterM13 9PL, UK) ,  Lee Peter (Research Complex at Harwell, Rutherford Appleton Laboratory, Harwell, OxfordshireOX11 0FA, UK) ,  Drakopoulos Michael (Diamond Light Source, Harwell Science & Innovation Campus, DidcotOX11 0DE, UK) ,  Sawhney Kawal (Diamond Light Source, Harwell Science & Innovation Campus, DidcotOX11 0DE, UK)
資料名： Journal of Synchrotron Radiation  (Journal of Synchrotron Radiation)
巻： 25  号： 4  ページ： 1182-1188  発行年： 2018年 
JST資料番号： W0763A  ISSN： 0909-0495  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： X線位相コントラスト画像は,弱吸収試料の画像コントラストを実質的に増強できる。専用光学の作製は,特に高エネルギー領域(すなわち,50keV以上)において,主要な障壁のままである。ここでは,ランダム吸収マスクとして工学的多孔質材料を用いることにより,X線位相コントラストイメージングを行った。これは,X線位相コントラストイメージングを以前に困難な高エネルギー領域に拡張するための代替解決策を提供する。提案したエンジニアリング材料の実現可能性を実証するために種々の試料を測定した。この技術は広い範囲の応用と分野にわたる試料の研究に役立つ可能性がある。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *X線 ,  *撮像 ,  高エネルギー領域 ,  *多孔質体
準シソーラス用語： *位相コントラスト ,  位相画像 ,  位相コントラストイメージング ,  画像コントラスト , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： X線位相イメージング ,  スペックル技術 ,  硬X線 ,  ランダム減衰マスク ,  高エネルギー領域 ,  多孔質材料

分類 (2件)： X線技術  (BA02060D) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (4件)： 多孔質材料 ,  X線 ,  位相コントラスト ,  撮像