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J-GLOBAL ID：201802272892108074   整理番号：18A0395816

模型インプラント印象のと比較した印象走査の精度【Powered by NICT】

Accuracy of impression scanning compared with stone casts of implant impressions

著者 (4件)： Matta Ragai Edward (Assistant Professor, University Clinic Erlangen, Dental Clinic 2, Department of Prosthodontics, Glueckstrasse, Erlangen, Germany) ,  Adler Werner (Assistant Professor, Department of Medical Informatics, Biometry and Epidemiology, Universitaetsstrasse, Erlangen, University of Erlangen-Nuremberg, Erlangen, Germany) ,  Wichmann Manfred (Professor, University Clinic Erlangen, Dental Clinic 2, Department of Prosthodontics, Glueckstrasse, Erlangen, Germany) ,  Heckmann Siegfried Martin (Professor, University Clinic Erlangen, Dental Clinic 2, Department of Prosthodontics, Glueckstrasse, Erlangen, Germany)
資料名： Journal of Prosthetic Dentistry  (Journal of Prosthetic Dentistry)
巻： 117  号： 4  ページ： 507-512  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0704C  ISSN： 0022-3913  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 正確な仮想インプラントモデルを安定に適合する上部構造正確に作製のための必要である。このin vitro研究の目的は,口腔内3次元インプラントの正確な仮想モデルを構築するために異なる方法を評価することであった;このモデルを用いて,反復コンピュータ支援設計およびコンピュータ支援製造(CAD CAM)法に使用できるだろう。3剛体連結インプラントによるチタンマスターモデルを作製し,デジタル化非接触工業用スキャナを用いた仮想マスタモデルを得ることであった。インプラント位置ロケータ(IPL)を用いたマスターモデルの印象はビニルsiloxanether材料を用いて行った。印象を走査した(印象走査技術群)。移動法とピックアップ法群(各群20人)では,インプラント類似体は印象コーピングに挿入した,印象はポリエーテルを用いて行った,円柱型4石膏に注入した。IPLは類似体にねじ込まれと走査した。各仮想試験モデルを用いた仮想マスタモデルを比較するために,CAD会話型ソフトウエア,ATOS専門,を適用した。Kruskal-Wallis検定は,群間の全体的な差を決定し,対比較に用いMann-WhitneyU試験であった。Bonferroni補正により,αレベルは0.017に設定した。結果は精度の点で3群(P<.01)間の有意差を明らかにした。全偏差に関しては,全ての軸では,伝達法は最大の発散,0.078mm(±0.022)を生成し,マスターモデルと比較した。ピックアップ法による偏差は0.041mm(±0.009)であり,偏差は0.022mmの(±0.007)で最も正確なモデルを生成する印象走査であった。印象走査法はCAD/CAM製作した超構造の精度を改善した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 三次元 ,  類似物質 ,  CAD【計算機】 ,  ソフトウェア ,  CAM【生産】 ,  円柱 ,  *走査 ,  上部構造 ,  口腔 ,  走査装置 ,  石膏
準シソーラス用語： 超構造 ,  CAD/CAM ,  マスターモデル ,  ディジタル化 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 分子・遺伝情報処理  (JE15040B)

タイトルに関連する用語 (4件)： 模型 ,  インプラント ,  印象 ,  走査