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文献
J-GLOBAL ID:201802273363322378   整理番号:18A1697402

酸素雰囲気中オペランド軟X線光電子分光によるAu薄膜/Si基板界面化学反応の解析

著者 (7件):
資料名:
巻: 79th  ページ: ROMBUNNO.18p-212B-7  発行年: 2018年09月05日
JST資料番号: Y0055B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
シソーラス用語:
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体の表面構造  ,  金属薄膜 

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