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J-GLOBAL ID：201802274284132937   整理番号：18A1195480

反射防止層と印刷可能な消去可能な基板としての平坦で周期的にマイクロパターン化された表面上の調整可能なコロイド結晶パターン【JST・京大機械翻訳】

Tunable Colloidal Crystalline Patterns on Flat and Periodically Micropatterned Surfaces as Antireflective Layers and Printable-Erasable Substrates

著者 (8件)： Song Ji Eun (Department of Chemical Engineering, Hanyang University, Seoul, 04763, South Korea) ,  Park Jong Seong (Department of Chemical Engineering, Hanyang University, Seoul, 04763, South Korea) ,  Lee Beu (Department of Chemical Engineering, Hanyang University, Seoul, 04763, South Korea) ,  Pyun Seung Beom (Department of Chemical Engineering, Hanyang University, Seoul, 04763, South Korea) ,  Lee Jieun (Department of Chemical Engineering, Hanyang University, Seoul, 04763, South Korea) ,  Kim Min Gyu (Department of Chemical Engineering, Hanyang University, Seoul, 04763, South Korea) ,  Han Yilong (Department of Physics, Hong Kong University of Science and Technology, Clear Water Bay, Hong Kong, China) ,  Cho Eun Chul (Department of Chemical Engineering, Hanyang University, Seoul, 04763, South Korea)
資料名： Advanced Materials Interfaces  (Advanced Materials Interfaces)
巻： 5  号： 11  ページ： e1800138  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2484A  ISSN： 2196-7350  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2D非最密充填コロイド結晶パターンは種々の分野でかなりの注目を集めているが,パターンを作製し,基板のタイプや構造にかかわらずそれらの形状を操作することは挑戦課題である。ここでは,塩水溶液に最密充填コロイド結晶単分子層を露出させることにより,平坦で周期的にマイクロパターン化した基板上に非充填ヒドロゲルコロイド結晶パターンを作製するための簡単なアプローチを開発した。パターンは,シリコン,ガラス,グラフェン,ポリ(エチレンテレフタレート)およびポリ(ジメチルシロキサン)表面のような平坦な表面上で達成可能である。ヒドロゲルコロイド球は,異なる材料基板上でディスク状または半球状粒子に変形することができる。パターン中のコロイドの形状と寸法は塩の種類または濃度を変えることにより調整可能である。調整可能なコロイド結晶パターンは周期的にマイクロパターン化した基板上に形成でき,新しい階層的結晶構造をもたらす。この方法の改良は,プラズモニックナノ粒子がヒドロゲル粒子表面上に選択的に集合する非充填ハイブリッドコロイド結晶パターンを容易に作製するのに効果的である。これらのパターン化基板は色を変調し,可視から近赤外への反射率を低減し,透過率を増強した。非最密充填コロイドパターンは,平坦およびマイクロパターン化基板の太陽熱電気効率を高めるための反射防止被覆層として有用である。コロイド結晶パターンの光学的同調性は,コロイド結晶に基づく印刷可能で消去可能な基板の開発を可能にする。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 単分子層 ,  ガラス ,  *コロイド ,  透過率 ,  ヒドロゲル ,  反射率 ,  *パターン形成 ,  グラフェン ,  結晶構造 ,  近赤外線 ,  ポリジメチルシロキサン ,  *印刷 ,  ケイ素
準シソーラス用語： 最密充填 ,  *コロイド結晶 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 幾何学的調整可能なコロイドパターン ,  階層的コロイド結晶 ,  ハイブリッドコロイド結晶 ,  光収穫 ,  非最密充填コロイド結晶パターン

分類 (2件)： コロイド化学一般  (CB11010C) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (5件)： 防止層 ,  消去 ,  平坦 ,  マイクロパターン ,  コロイド結晶