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J-GLOBAL ID：201802274841665708   整理番号：18A1944687

反応性高出力パルススパッタリングPenning放電による窒化チタン膜の作製【JST・京大機械翻訳】

Preparation of titanium carbon nitride films by reactive high power pulsed sputtering Penning discharges

著者 (4件)： Kimura Takashi (Graduate School of Engineering, Nagoya Institute of Technology, Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya, 466-8555, Japan) ,  Yoshida Ryo (Graduate School of Engineering, Nagoya Institute of Technology, Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya, 466-8555, Japan) ,  Azuma Kingo (Department of Electrical Materials and Engineering, University of Hyogo, 2167 Shosha, Himeji, Hyogo, 671-2280, Japan) ,  Nakao Setsuo (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) - Chubu, 2266-98 Anagahora, Moriyama, Nagoya, 463-8560, Japan)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 157  ページ： 192-201  発行年： 2018年 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： チタン窒化炭素(TiCN)膜を,0.7Paの全圧力と約60Wの平均出力で,反応性高出力パルススパッタリング(HPPS)Penning放電により調製した。ここで,N_2分率は5%である。全ターゲットに対する炭素ターゲットの面積比(R_TC)は0から50%に増加した。このシステムは,同時性を有する一種の二重HPPSシステムと見なすことができる。瞬時電力のピーク値は3~16kWの範囲である。それは,ピーク電力密度範囲が0.3~1.3kWcm2に対応することを意味する。30GPaの膜硬度と200~240GPaの弾性係数は25%以下のR_TCではR_TCに強く依存せず,それ以上ではそれらは15.8GPaと122GPaに減少した。しかし,圧縮応力と摩擦係数の値は,R_TCの増加とともに徐々に減少した。25%以下のR_TCで作製した膜では(111)組織のX線回折ピークが観察され,約8~15nmの結晶粒サイズを示した。一方,硬度と応力の値は,25%未満のR_TCにおけるパルス当たりの散逸エネルギー(E_p)の増加とともに増加した。X線光電子分光法(XPS)と透過型電子顕微鏡(TEM)-電子エネルギー損失分光法(EELS)により,膜の化学組成と結合状態を調べた。XPS測定に基づいて,Cの相対含有量はR_TCの増加とともに2.8から65%まで増加した。一方,Nの相対含有量はTiのそれに近く,46から17%に減少した。Ti-N結合に関連するピークの強度はTi成分を含む二成分または三成分化合物に関連するピークの全ての強度の中で最大であるが,sp2-C結合に関連する強度はR_TCと共に増加する。これらの強度比はR_TCに依存するが,それらはE_pに敏感ではない。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 透過型電子顕微鏡 ,  *チタン ,  ピーク値 ,  *パルス ,  化学組成 ,  硬度 ,  摩擦係数 ,  結晶粒径 ,  同時性 ,  弾性係数 ,  電子顕微鏡観察 ,  *窒化 ,  X線光電子スペクトル ,  *反応性 ,  圧縮応力 ,  窒化炭素 ,  *改変
準シソーラス用語： ピーク電力 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (8件)： 反応性 ,  高出力 ,  パルス ,  スパッタリング ,  Penning放電 ,  窒化 ,  チタン膜 ,  作製