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J-GLOBAL ID：201802275234261373   整理番号：18A0525934

ナノ双晶ナノ結晶高エントロピー合金膜における超高硬度・高電気抵抗率【Powered by NICT】

Ultrahigh hardness and high electrical resistivity in nano-twinned, nanocrystalline high-entropy alloy films

著者 (7件)： Huo Wenyi (Jiangsu Key Laboratory of Advanced Metallic Materials, Southeast University, Nanjing 211189, China) ,  Liu Xiaodong (Jiangsu Key Laboratory of Advanced Metallic Materials, Southeast University, Nanjing 211189, China) ,  Tan Shuyong (School of Materials Science and Engineering, Nanjing Institute of Technology, Nanjing 211167, China) ,  Fang Feng (Jiangsu Key Laboratory of Advanced Metallic Materials, Southeast University, Nanjing 211189, China) ,  Xie Zonghan (School of Mechanical Engineering, University of Adelaide, SA 5005, Australia) ,  Shang Jianku (Department of Materials Science and Engineering, University of Illinois at Urbana-Champaign, Urbana, IL 61801, United States) ,  Jiang Jianqing (Jiangsu Key Laboratory of Advanced Metallic Materials, Southeast University, Nanjing 211189, China)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 439  ページ： 222-225  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ双晶,ナノ結晶CoCrFeNi高エントロピー合金膜をマグネトロンスパッタリングにより作製した。膜は8.5GPaの高い硬さ,161.9GPaの弾性率と135.1μΩcmの高い電気抵抗率を示した。顕著な機械的性質はナノ結晶粒とナノ双晶により生成された変形の抵抗に起因することが分かった,一方,電気抵抗率は結晶粒界と格子歪により誘起された強い阻害効果に起因した。結果はマイクロ/ナノ電子デバイスに結合構造的及び機能的特性を有する先進膜の開発のための強固な基盤を築く。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 弾性係数 ,  *ナノ結晶 ,  *硬度 ,  ロバスト性 ,  *電気抵抗率 ,  マグネトロンスパッタリング ,  格子歪 ,  機械的性質 ,  結晶粒界
準シソーラス用語： *高硬度 ,  *高エントロピー合金 ,  *ナノ双晶 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 高エントロピー合金膜 ,  ナノ結晶 ,  ナノ双晶 ,  機械的性質 ,  Resistivity

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノ双晶 ,  ナノ結晶 ,  高エントロピー合金 ,  高硬度 ,  電気抵抗率