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J-GLOBAL ID:201802276277622624   整理番号:18A1591209

ZnOナノロッドアレイ膜上のCH_3OH,NH_3及びCOの表面反応 ガス検知選択性機構のDFT研究【JST・京大機械翻訳】

Surface reactions of CH3OH, NH3 and CO on ZnO nanorod arrays film: DFT investigation for gas sensing selectivity mechanism
著者 (6件):
資料名:
巻: 457  ページ: 975-980  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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金属酸化物半導体(MOS)ガス検知材料の選択性特性の研究において,選択性機構における曖昧さはジレンマをもたらした。本研究において,CH_3OHへのZnOナノロッドアレイの選択性機構を,密度汎関数理論(DFT)に基づく3つのガス分子(CH_3OH,NH_3およびCO)の応答および回復反応を系統的にシミュレーションすることによって明らかにした。結果は,CH_3OHへの選択性が3つの因子に起因することを示唆する。ZnO(101-0)上のCH_3OHの応答反応は最も発熱性であり,NH_3に対する選択性の主な理由である。CH_3OHから酸化された生成物だけでなく中間体は,最も強い吸収能力を有して,それはO_2分子の再吸収を妨げて,主にCO.IIIに対する選択性に導いた。CH_3OHから解離したH吸着原子は,大部分の電子をZnO表面層に移動させ,選択性の原因となる。本研究は,MOSsの選択性特性を予測するための選択性機構と実行可能な方法への新しい洞察を提供する。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (3件):
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その他の触媒  ,  分析機器  ,  酸化物薄膜 

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