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J-GLOBAL ID：201802276425302555   整理番号：18A0484900

ゾル-ゲル法を用いて作製したBi_0(Na_0 8K_0.2)_0.5TiO_3薄膜の相形成過程【Powered by NICT】

The phase formation process of Bi_0.5(Na_0.8K_0.2)_0.5TiO₃ thin films prepared using the sol-gel method

著者 (5件)： Chen Pan (Key Laboratory of Advanced Civil Engineering Materials of Ministry of Education, Functional Materials Research Laboratory, School of Materials Science & Engineering, Tongji University, Shanghai 201804, China) ,  Wu Shuanghao (Key Laboratory of Advanced Civil Engineering Materials of Ministry of Education, Functional Materials Research Laboratory, School of Materials Science & Engineering, Tongji University, Shanghai 201804, China) ,  Li Peng (Key Laboratory of Advanced Civil Engineering Materials of Ministry of Education, Functional Materials Research Laboratory, School of Materials Science & Engineering, Tongji University, Shanghai 201804, China) ,  Zhai Jiwei (Key Laboratory of Advanced Civil Engineering Materials of Ministry of Education, Functional Materials Research Laboratory, School of Materials Science & Engineering, Tongji University, Shanghai 201804, China) ,  Shen Bo (Key Laboratory of Advanced Civil Engineering Materials of Ministry of Education, Functional Materials Research Laboratory, School of Materials Science & Engineering, Tongji University, Shanghai 201804, China)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 44  号： 6  ページ： 6402-6408  発行年： 2018年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 無鉛Bi_0(Na_0 8K_0,2)_0.5TiO_3(BNKTと略記)薄膜を,ゾル-ゲル/スピンコーティング法を用いてPt(111)/Ti/SiO_2/Si基板上に成長させた,種々の温度(350°C,550°C,750°Cおよび850°C)でアニールした。XRDパターンとFT-IRスペクトルの解析を用いて,主要な反応とゾル-ゲル法の過程でBNKT薄膜の相形成過程を決定した。結果は,薄膜の誘電率は設定温度で最大に達し,その後より高い焼なまし温度,相形成と相変態に起因するで減少することを示した。BNKT薄膜の形態は,粒径の増加と明確な結晶粒界の形成で改善される。さらに,前駆体溶液のpHを増加させることによって,ゾル-ゲルコロイド粒子のサイズは僅かに増大し,対応する溶液から形成された結晶粒は均一になる傾向があった。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *薄膜 ,  誘電率 ,  *ゲル ,  X線回折 ,  スペクトル ,  前駆体 ,  結晶粒界 ,  スピンコーティング ,  結晶粒 ,  粒径
準シソーラス用語： コロイド粒子 ,  焼きなまし温度 ,  *相形成 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： ゾル-ゲル ,  pH値 ,  相形成過程 ,  BNKT薄膜

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： ゾル-ゲル法 ,  作製 ,  薄膜 ,  相形成 ,  過程