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J-GLOBAL ID:201802276466505036   整理番号:18A1351874

平坦な高分子埋め込み多孔質シリコン1D勾配屈折率マイクロレンズアレイの電気化学的作製【JST・京大機械翻訳】

Electrochemical Fabrication of Flat, Polymer-Embedded Porous Silicon 1D Gradient Refractive Index Microlens Arrays
著者 (10件):
資料名:
巻: 215  号: 13  ページ: e1800088  発行年: 2018年 
JST資料番号: D0774A  ISSN: 1862-6300  CODEN: PSSABA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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傾斜屈折率(GRIN)光学は光学素子形状から光学性能を分離する能力のためにかなりの関心を引き付けている。しかし,GRIN光学部品の有用性にもかかわらず,任意のGRINプロファイルを作製することは困難なままであり,利用可能な屈折率コントラストは特にマイクロスケールで小さいままである。ここでは,著者らが開発した数学的変換を用いて,バルクSi微細構造の電気化学的エッチングアレイに必要な電気化学波形を,1D多孔質Si(PSi)GRINマイクロレンズアレイ(MLAs)に決定した。この波形を用いて,正確に定義された任意の屈折率分布を含む高屈折率コントラストMLAsを形成した。MLAsは透明な光学高分子に埋め込まれ,ホストSi基板から機械的に分離され,簡単な研磨により平坦化される。円筒状マイクロレンズと1Dアキシコンを実証し,特性化し,光学的挙動は理論と一致することが分かった。これらのMLAsは,ディスプレイ,光検出器,および光学顕微鏡における応用を見出すことができた。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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光導波路,光ファイバ,繊維光学  ,  固体デバイス製造技術一般 

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