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J-GLOBAL ID：201802277293519189   整理番号：18A0406448

自己組織化シリカナノ粒子反射防止膜の増強された引かき抵抗【Powered by NICT】

Enhanced scratch resistance of self-assembled silica nanoparticle anti-reflection coatings

著者 (4件)： Metzman Jonathan S. (Department of Materials Science and Engineering, Virginia Tech, Blacksburg, Virginia 24061, USA. [e-mail]) ,  Wang Guanyu ,  Morris John R. ,  Heflin James R.
資料名： Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices  (Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 6  号： 4  ページ： 823-835  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2383A  ISSN： 2050-7526  CODEN： JMCCCX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリカナノ粒子(SiO_2NPs)とポリ(アリルアミン塩酸塩)(PAH)の層毎イオン自己集合は高品質,調整可能な,費用対効果に優れた反射防止コーティング(ARCs)を得ることができた。しかし,これら純粋にイオン性膜は長期安定性に必要な耐スクラッチ性を欠いている。,PAH及びポリ(アクリル酸)(PAA),熱橋かけ高分子電解質の添加は,この課題の解決策を提供することができる。改善されたARC設計はPAH/PAA/PAH/SiO_2層間イオン自己組織化多層(ISAM)膜の反復単位の形成を含んでいる。高鎖電荷密度(pH=3.0~6.0)に低をもたらすPAA pHの操作に起因する関連する効果を検討した。PAA pH変化は膜の引かき抵抗と反対方向に反射防止特性を劇的にシフトした。膜のRMS表面粗さと表面形態もPAA pH変化により大きく影響されることが分かった,pHがPAA pK_aに近接して存在した。本報告では,これらの特性のキャラクタリゼーションは紫外可視分光法,偏光解析法,形状測定,電界放出走査電子顕微鏡(FESEM),トライボロジー,マクロスケール引かき試験,煙霧測定により求めた。熱架橋にPAH/PAA膜における共有結合アミド結合の発達を,Fourier変換赤外分光法により確認した。研究の主目的は,PAA pHの修飾によるPAH/PAA/PAH/SiO_2層間ISAM ARC内の引かき抵抗と反射防止特性の間のトレードオフの最適化である。5.2のPAA pH値で見出される最適トレードオフ。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： キャラクタリゼーション ,  熱硬化 ,  ポリアクリル酸 ,  FTIR分光法 ,  自己集合 ,  最適化 ,  高分子電解質 ,  共有結合 ,  引かき試験 ,  *反射防止膜 ,  偏光解析法
準シソーラス用語： 電界放出型走査電子顕微鏡 ,  表面形態 ,  *反射防止 ,  *シリカナノ粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 分析機器  (CC02020S) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (4件)： 自己組織化 ,  シリカナノ粒子 ,  反射防止膜 ,  増強