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J-GLOBAL ID:201802277826623958   整理番号:18A0683486

エネルギーろ過マグネトロンスパッタリング技術による積層TiO2薄膜の光触媒性能を調製した。【JST・京大機械翻訳】

Photocatalytic Properties of Double-layer TiO2 Coatings Deposited by Energy Filtering Magnetron Sputtering Technique
著者 (5件):
資料名:
巻: 49  号:ページ: 61-65  発行年: 2017年 
JST資料番号: C3255A  ISSN: 1671-6841  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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積層TiO2薄膜は薄膜の比表面積を向上させることができ、薄膜の光触媒効率を向上させることができる。単一層および積層TiO2薄膜を,DCマグネトロンスパッタリング(DMS)およびエネルギー濾過(RF)マグネトロンスパッタリング(EFMS)技術によって,それぞれ調製した。膜の構造,モルフォロジー,光学的性質および光触媒特性を,X線回折,走査電子顕微鏡,エリプソメトリー,およびUV-Vis分光光度計によって特性評価した。結果は以下を示した。単層TiO2薄膜と比べ、TiO2薄膜の結晶粒度はより小さく、表面はより平滑で、光学バンドギャップは増大し、紫外線照射2.5h後、RhB溶液の光触媒分解率は41.2%で、単層TiO2薄膜の2.4倍であった。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  半導体薄膜 

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