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J-GLOBAL ID:201802278143945769   整理番号:18A0242144

化学プロセスにより支援された溶液法で作製した金属酸化物薄膜の低温結晶化【Powered by NICT】

Low-temperature crystallization of solution-derived metal oxide thin films assisted by chemical processes
著者 (4件):
資料名:
巻: 47  号:ページ: 291-308  発行年: 2018年 
JST資料番号: D0479B  ISSN: 0306-0012  CODEN: CSRVBR  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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過去数年にわたり金属酸化物薄膜の低温加工に関する研究に特化した研究工数は顕著に増加した。これが,フレキシブルな電子システムのための低融点高分子基板上の金属酸化物層(非晶質半導体)の直接積分,エネルギー消費を低減するこれらのプロセスの使用の経済的及び環境的利益に加わるを可能にした。より挑戦的なフレキシブルデバイスへの直接集積化と両立できる温度での結晶性複合酸化物膜の調製である。しかし,通常高い結晶化温度(>600 °C)は,利用可能な酸化官能基の大きなバラエティに富んを利用するデバイスの開発を妨げている。このチュートリアルレビューでは,低温で金属酸化物薄膜の結晶化を誘導するための湿式化学法に基づく戦略の数を解析した。鍵となる機構は初期段階で到達した製造過程の特定段階との関連で説明した:無欠陥,高度にち密化した非晶質金属-酸素ネットワークの形成あるいは金属酸化物の実際の結晶化。,光は結晶化を誘導するために補足的なエネルギー源として用いることができる,光化学の役割を特に強調した。これは新しい感光性溶液(修飾金属アルコキシド,電荷移動金属錯体または構造的に設計した分子化合物)の合成とUV照射(光化学的開裂,オゾン分解,凝縮あるいは光触媒反応)によって促進された反応の精密な制御を必要とする。フレキシブル基板(≦350 °C)上の結晶性金属酸化物薄膜の統合から誘導された関連の実例をこの分野の最も最近の成果を説明した。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (2件):
分類
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光化学反応  ,  塩基,金属酸化物 

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