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J-GLOBAL ID:201802278204151689   整理番号:18A0526070

一段階熱移動と還元グラフェン酸化物を用いた表面改質により作製した自然友禅基板回路【Powered by NICT】

Natural printed silk substrate circuit fabricated via surface modification using one step thermal transfer and reduction graphene oxide
著者 (4件):
資料名:
巻: 440  ページ: 177-185  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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グラフェン導電性絹基板は,その生体適合性,柔軟性と快適性のために好ましい材料である。フレキシブル天然友禅基板回路は移動で簡単なホットプレス処理を用いた還元グラフェン酸化物(RGO)へのGOの絹織物と還元の表面へのグラフェン酸化物(GO)ペーストの一段階移動により作製した。GOペーストは,低温下での超音波撹はん剥離によって得られ,高濃度で優れた印刷レオロジー特性を示した。絹織物は12.15 1KΩ・cmの~ 1と低い表面電気抵抗,GO50g L~( 1)とホットプレス220°Cで120sでの濃度で得られた。白色度と強度はゆっくりとホットプレス温度と時間の増加に伴って減少したが,RGO表面改質絹基板の電気伝導率は明らかに改善した。RGO/絹織物の表面電気抵抗は,1020及び30洗浄サイクル後に12.15 1KΩ・cmの~ 1から18.05 1KΩ・cmの~ 1 28.54 1KΩ・cmの~ 1および32.53 1KΩ・cmの~ 1であった。Theresultsshowedthatは友禅基板回路は優れた洗浄性を有している。このプロセスはnochemical還元剤を必要とし,GOの還元効率と還元度が高い。天然絹基質法へのこの時間で環境に優しい一段階熱移動と還元グラフェン酸化物は,還元グラフェン酸化物(RGO)ベースのフレキシブルプリント回路の生産に容易に使用できる。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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炭素とその化合物 
タイトルに関連する用語 (5件):
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