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J-GLOBAL ID:201802278265133941   整理番号:18A0127312

Microsorum pteropusの根と葉の間の抵抗メカニズムとその差新しいポテンシャル水カドミウム超集積植物【Powered by NICT】

Resistance mechanisms and their difference between the root and leaf of Microsorum pteropus - A novel potential aquatic cadmium hyperaccumulator
著者 (5件):
資料名:
巻: 616-617  ページ: 480-490  発行年: 2018年 
JST資料番号: C0501B  ISSN: 0048-9697  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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水生ウラボシ科しだ類,Microsorum pteropus(M.pteropus)は著者らの以前の研究における有望な新規カドミウム(Cd)超蓄積体として同定された。本研究では,Cd耐性機構と光合成,抗酸化系と遺伝子発現の分析に基づくM.pteropusの根と葉の間の違いを明らかにした。500μMで高レベルCdを用いて試料を処理この化合物の影響を試験することであった。スーパーオキシドジスムターゼ(SOD),ペルオキシダーゼ(POD),マロンジアルデヒド(MDA)及びフラボノイドは抗酸化系変化の指標として用いた。光化学系II(F_v/F_m),光化学系IIの有効量子収量(Y(II)),光化学消光(qP),非光化学的消光(qN)と電子伝達速度(ETR)の最大光化学効率を含む五つのクロロフィル蛍光パラメータは光合成の変化を決定するために測定した。RNA配列解析は遺伝子発現の変化を研究するために用いた。結果は,高濃度のCdに曝露した後,酵素的酸化剤(SODとPOD)の濃度は有意に増加したが,MDAレベルは有意に減少したことを示した。Cdストレス中のクロロフィル蛍光パラメータの有意な変化ではなかった,これはM.pteropusはそれ自身を保護する上で非常に有効であることを示した。機能遺伝子,光化学系遺伝子および二次代謝物を含む,は有意に変化した発現レベルを有していた。種々のCd耐性機構は,M.pteropusの根と葉の組織間に見られた。M.pteropusの根組織は抗酸化剤を用いたCd損傷に抵抗するが,その葉組織は主に光化学系自己保護を用いてこれら自身を保護する。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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その他の汚染原因物質  ,  植物に対する影響 

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