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J-GLOBAL ID：201802278552137564   整理番号：18A1059356

結晶学的に歪んだCoFe系における巨大電圧制御磁気異方性効果

Giant voltage-controlled magnetic anisotropy effect in a crystallographically strained CoFe system

著者 (19件)： KATO Yushi (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  YODA Hiroaki (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  SAITO Yoshiaki (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  SAITO Yoshiaki (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  OIKAWA Soichi (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  FUJII Keiko (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  YOSHIKI Masahiko (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  KOI Katsuhiko (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  SUGIYAMA Hideyuki (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  ISHIKAWA Mizue (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  INOKUCHI Tomoaki (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  SHIMOMURA Naoharu (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  SHIMIZU Mariko (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  SHIROTORI Satoshi (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  ALTANSARGAI Buyandalai (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  OHSAWA Yuichi (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  IKEGAMI Kazutaka (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  TIWARI Ajay (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  KUROBE Atsushi (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 11  号： 5  ページ： 053007.1-053007.5  発行年： 2018年05月 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： MgO/CoFe/Ir系における結晶学的に歪んだCoFe層(厚さ約15単分子層)における,巨大電圧制御磁気異方性(VCMA)係数を実験的に実証した。飽和磁場の強い印加電圧依存性と,-758と1043 fJ V^-1 m^-1の巨大VCMA係数をもつ非対称凹形挙動を観測した。構造解析の結果は,MgO/CoFe/Ir層におけるエピタキシャル成長,および配向関係MgO(001)[110]||CoFe(001)[100]||Ir(001)[110]を明らかにした。CoFe層はbcc構造と格子不整合による正方晶歪を持ち,CoFe層は大きな垂直磁気異方性を持った。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *結晶学 ,  *歪 ,  *鉄合金 ,  *コバルト合金 ,  *電圧制御 ,  *磁気異方性 ,  酸化マグネシウム ,  イリジウム ,  飽和磁化 ,  構造解析 ,  結晶方位 ,  格子不整合
準シソーラス用語： 結晶配向

分類 (2件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T) ,  金属の磁気異方性・磁気機械効果  (BM06102S)

引用文献 (25件)：

• K. Ikegami, Y. Shiota, T. Nozaki, K. Abe, H. Noguchi, S. Yuasa, Y. Suzuki, and S. Fujita, Intermag Dig., 2017, CF-11.
• H. Yoda, N. Shimomura, Y. Ohsawa, S. Shirotori, Y. Kato, T. Inokuchi, Y. Kamiguchi, B. Altansargai, Y. Saito, K. Koi, H. Sugiyama, S. Oikawa, M. Shimizu, M. Ishikawa, K. Ikegami, and A. Kurobe, IEDM Tech. Dig., 2016, p. 27.
• T. Inokuchi, H. Yoda, Y. Kato, M. Shimizu, S. Shirotori, N. Shimomura, K. Koi, Y. Kamiguchi, H. Sugiyama, S. Oikawa, K. Ikegami, M. Ishikawa, B. Altansargai, A. Tiwari, Y. Ohsawa, Y. Saito, and A. Kurobe, Appl. Phys. Lett. 110, 252404 (2017).
• S. Shirotori, H. Yoda, Y. Ohsawa, N. Shimomura, T. Inokuchi, Y. Kato, Y. Kamiguchi, K. Koi, K. Ikegami, H. Sugiyama, M. Shimizu, B. Altansargai, S. Oikawa, M. Ishikawa, A. Tiwari, Y. Saito, and A. Kurobe, IEEE Trans. Magn. 53, 3401104 (2017).
• T. Nozaki, Y. Shiota, M. Shiraishi, T. Shinjo, and Y. Suzuki, Appl. Phys. Lett. 96, 022506 (2010).

タイトルに関連する用語 (3件)： 結晶学 ,  電圧制御 ,  磁気異方性