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J-GLOBAL ID：201802279635390800   整理番号：18A1941484

有機基板上に堆積したTa内包Siケージナノクラスタ超原子(Ta@Si_16)の一酸化窒素酸化 Siケージ崩壊指示薬【JST・京大機械翻訳】

Nitric oxide oxidation of a Ta encapsulating Si cage nanocluster superatom (Ta@Si₁₆) deposited on an organic substrate; a Si cage collapse indicator

著者 (5件)： Shibuta Masahiro (Keio Institute of Pure and Applied Sciences (KiPAS), Keio University, 3-14-1, Hiyoshi, Kohoku-ku, Yokohama 223-8522, Japan) ,  Niikura Toshiki ,  Kamoshida Toshiaki ,  Tsunoyama Hironori ,  Nakajima Atsushi
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 20  号： 41  ページ： 26273-26279  発行年： 2018年 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反応性ガスとしての一酸化窒素(NO)への曝露による過層状C_60フラーレンから成るn型有機基板上に堆積したタンタルカプセル化Si_16ケージナノクラスタ(Ta@Si_16)から成るアルカリ様超原子の化学反応速度論を調べた。コア準位X線光電子分光法は,NOによるTa@Si_16酸化が外側Si_16ケージから中心Ta原子へ段階的に進行することを明らかにした。初期段階の間に,NOはケージを貫通することなくTa@Si_16のケージ表面によって解離的に化学吸着されるが,極端な反応条件下では,Si_16ケージの崩壊は中心Ta原子のNO酸化をもたらす。特に,分子NO吸着はTa@Si_16のSi_16ケージの崩壊後にのみTa酸化と関連した。酸化の初期段階におけるM@Si_16のNOとの反応速度論を密度汎関数理論計算と併せて論じた。金属カプセル化と結合した価電子による殻閉鎖の超原子的性質のために,Ta@Si_16中のケージSiの表面酸化は,Siケージ崩壊の指標として機能する分子物理吸着NOを伴う裸のSi表面のそれと比較して緩やかに起こる。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 反応速度論 ,  *酸化 ,  *一酸化窒素 ,  X線光電子分光法 ,  価電子 ,  物理吸着 ,  *ケイ素 ,  化学吸着 ,  *タンタル ,  内殻準位 ,  表面酸化 ,  反応条件 ,  *有機基板 ,  *かご
準シソーラス用語： *超原子 ,  *ケージ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 分子の電子構造  (BH05010Q) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

タイトルに関連する用語 (12件)： 有機基板 ,  堆積 ,  Ta ,  内包 ,  Si ,  ケージ ,  ナノクラスタ ,  超原子 ,  一酸化窒素 ,  酸化 ,  崩壊 ,  指示薬