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J-GLOBAL ID:201802280361974900   整理番号:18A0335957

非晶質Ni,Ni-Pおよびナノ結晶Ni膜の分子動力学滑りシミュレーション【Powered by NICT】

Molecular dynamics sliding simulations of amorphous Ni, Ni-P and nanocrystalline Ni films
著者 (6件):
資料名:
巻: 129  ページ: 231-238  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0443A  ISSN: 0927-0256  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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分子動力学モデリングを用いて,種々のナノスケール試料の滑り特性を調べることである:単結晶ニッケルせん断変形,Ni-P非晶質層とナノ結晶ニッケル中の非晶質純Niから進化した。滑りシミュレーション中に発現した抵抗応力と塑性変形機構の値に注目した。研究は温度変動の狭い許容可能な範囲で,約300Kの温度で検討したシステムに対して行った。Ni-P非晶質構造は最低の抵抗応力と円滑な滑りせん断荷重による原子対間の結合スイッチング機構によって提供される,によって特徴づけられることが分かった。結晶化が起こる前に類似した低抵抗応力も非晶質純Ni層が,滑りの初期段階でのみ観察された。最高のせん断抵抗は積層欠陥形成と転位運動のような古典的変形機構による単結晶ニッケルで確認された。ナノ結晶試料の滑りシミュレーションは,バルクの結晶欠陥に駆動された変形と準非晶質粒界に沿った滑りを示した。その場合,抵抗力は非晶質層滑りと単結晶滑りの間で,非晶質層滑りに近かった。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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金属の機械的性質 

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