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J-GLOBAL ID：201802280705348088   整理番号：18A0138439

フォノニック結晶を用いた熱伝導率とフォノン分散関係の修正【Powered by NICT】

Modification of thermal conductivity and phonon dispersion relation by means of phononic crystals
著者 (6件)：
Sledzinska M.

Sledzinska M. について

(Catalan Institute of Nanoscience and Nanotechnology (ICN2), CSIC and The Barcelona Institute of Science and Technology Campus UAB, Bellaterra, 08193 Barcelona, Spain)

Catalan Institute of Nanoscience and Nanotechnology (ICN2), CSIC and The Barcelona Institute of Science and Technology Campus UAB, Bellaterra, 08193 Barcelona, Spain について

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Sachat A. El

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Reparaz J. S.

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Wagner M. R.

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Alzina F.

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Torres C. M. Sotomayor

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資料名：
IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)

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巻： 2017  号： THERMINIC  ページ： 1-4  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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シリコンにおける熱伝導は,自立膜の周期パターン形成により効果的に低減できた。本研究では,薄いシリコン膜に基づく自立フォトニック結晶を製作するための簡単な方法を示した。は六方晶フォトニック結晶の熱伝導率を測定するための非接触二レーザRaman温度測定法を用いた。研究の目的は,フォノニック結晶中のフォノンの挙動を理解し,制御し,熱伝導率を最小化する標的することである。特に,熱伝導率に及ぼす表面対体積比の影響に注目した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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六方晶系

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フォトニック結晶

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シリコン膜

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分類 (1件)：
分類
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比熱・熱伝導一般 
(BL05021E)

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