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J-GLOBAL ID：201802280749238847   整理番号：18A0401516

xカットニオブ酸リチウム層を含むグラフェンベース一次元フォトニック結晶における吸収挙動【Powered by NICT】

Absorption behavior in graphene-based one-dimensional photonic crystals containing a x-cut lithium niobate layer

著者 (3件)： Rashidi Arezou (Faculty of Physics, University of Tabriz, Tabriz, Iran) ,  Namdar Abdolrahman (Faculty of Physics, University of Tabriz, Tabriz, Iran) ,  Abdi-Ghaleh Reza (Department of Laser and Optical Engineering, University of Bonab, Bonab, Iran)
資料名： Superlattices and Microstructures  (Superlattices and Microstructures)
巻： 105  ページ： 74-80  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0600B  ISSN： 0749-6036  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,ほぼ完全な吸収はニオブ酸リチウム(LiNbO_3)層を囲む二グラフェンベースのフォトニック結晶の周期数を調整することにより達成できることを示した。LiNbO_3は電圧依存屈折率と高いEO係数を持つ電気光学(EO)材料であるので,吸収のピーク波長可同調性を明らかにした。ピーク波長と印加外部電圧の関係は線形であることを示し,ピーク波長は印加した外部電圧を増加させることにより短波長側に移動する。さらに,LiNbO_3欠陥層の厚さを変えることによって多重ピークを達成することが可能である。最後に,グラフェンの制御可能なパラメータ(化学ポテンシャル)による吸収の制御の可能性を検討した。結果は,与えられた構造,すなわち,LNO層を囲む明確な周期数のための,強化された吸収が達成され,化学ポテンシャルを調節することによりできることを示した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 多重化 ,  線形性 ,  *グラフェン ,  *フォトニック結晶 ,  *ニオブ酸リチウム ,  屈折率 ,  化学ポテンシャル ,  電圧 ,  *一次元
準シソーラス用語： 印加電圧 ,  チューナビリティ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 強化された吸収 ,  グラフェン ,  フォトニック結晶 ,  電気光学材料 ,  化学ポテンシャル

分類 (2件)： 半導体のルミネセンス  (BM08092S) ,  量子光学一般  (BD04010X)

タイトルに関連する用語 (4件)： ニオブ酸リチウム ,  グラフェン ,  フォトニック結晶 ,  挙動