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J-GLOBAL ID：201802281652714111   整理番号：18A0205586

寒冷ストレス下におけるハクサイ実生の光合成に対するガス分子H2SとNOの影響【JST・京大機械翻訳】

Effects of Gasotransmitters NO and H2S on Photosynthesis of Chinese Cabbage Seedlings under Chilling Stress

著者 (5件)： Pei Yanxi (山西大学生命科学学院,山西太原,030006) ,  He Feng (山西大学生命科学学院,山西太原,030006) ,  Jie Mengjie (山西大学生命科学学院,山西太原,030006) ,  Shao Qi (山東大学生命科学学院,山東済南,250100) ,  Jin Zhuping (山西大学生命科学学院,山西太原,030006)
資料名： Shanxi Daxue Xuebao. Ziran Kexue Ban  (Shanxi Daxue Xuebao. Ziran Kexue Ban)
巻： 40  号： 3  ページ： 596-601  発行年： 2017年 
JST資料番号： C2975A  ISSN： 0253-2395  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： H2SとNOの2種類の気体シグナル分子はいずれも植物の非生物的ストレスを増強する作用があるが、両者の相互作用はまだ不明である。本稿では,寒冷ストレス下におけるハクサイ苗の光合成特性と光合成関連遺伝子発現に及ぼすH_2SとNO含量の影響を調べ,2つのシグナル分子間の相互作用を調べた。その結果,H_2S含有量はNOの生合成と正の相関があり,一方,NOはH_2S生合成に影響しないことが示された。寒冷ストレス条件下では、H2SとNOはいずれも光合成関連遺伝子の発現量を増加させることにより、ハクサイ苗の光合成作用を増加させるが、外因性H2SとNOが共に処理される場合、この増強効果は重畳効果がない。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 畳込み ,  *寒冷ストレス ,  遺伝子 ,  *実生 ,  遺伝子発現 ,  *光合成 ,  *硫化水素 ,  生合成 ,  相互作用 ,  *ハクサイ
準シソーラス用語： 非生物的ストレス ,  シグナル分子 ,  *気体分子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Hydrogen sulfide ,  Nitric oxide ,  Chilling stress ,  gasotransmitter ,  Brassica rapa var.pekinensis

分類 (2件)： 光合成  (EB10020I) ,  遺伝子発現  (EC02040Q)

タイトルに関連する用語 (7件)： 寒冷ストレス ,  ハクサイ ,  実生 ,  光合成 ,  ガス分子 ,  H2S ,  NO