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J-GLOBAL ID：201802282466324715   整理番号：18A0135711

効率的な有機光起電素子のための反射防止パターンの中空シリカナノ粒子を用いたによる増加した全方向性光吸収【Powered by NICT】

Increased omnidirectional light absorbance by using hollow silica nanoparticles in an anti-reflective pattern for efficient organic photovoltaic devices

著者 (3件)： Jang Woongsik (School of Integrative Engineering, Chung-Ang University, 84 Heukseok-Ro, Dongjak-gu, Seoul, 06974, Republic of Korea) ,  Park Keum Hwan (Display Components & Materials Research Center, Korea Electronics Technology Institute, Saenari-ro, Bundang-gu, Seongnam-si, Gyeonggi-do, 13509, Republic of Korea) ,  Wang Dong Hwan (School of Integrative Engineering, Chung-Ang University, 84 Heukseok-Ro, Dongjak-gu, Seoul, 06974, Republic of Korea)
資料名： Organic Electronics  (Organic Electronics)
巻： 53  ページ： 315-319  発行年： 2018年 
JST資料番号： W1352A  ISSN： 1566-1199  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有機光起電素子に及ぼす単層低屈折率反射防止(AR)被覆を調べ,中空シリカナノ粒子を用いた,断面TEM画像で示された。ARパターン層を持つデバイスのPCE(6.53%)は改良され,それは光学的および電気的解析によって観測された垂直入射での広帯域範囲と電荷発生における増加した光吸収に寄与した。中空シリカナノ粒子によるARパターン層を有する素子の光起電力性能を比較して,ARパターンは,30と60°のAOIの平均吸光度減少45%と74%の発生率(AOI)改善の角を達成し,裸の基板のそれと比較した。ARパターン層は優れた広帯域及び全方向性反射防止特性を示し,種々のAOIでデバイスの性能を改善した。シリカナノ粒子からARパターン層を単純なコーティングプロセス,有機光起電力素子の高い性能に寄与するであろう,太陽装置の反射率を減少させるための有用な方法である。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 電荷 ,  反射率 ,  *光吸収 ,  吸光度 ,  単一層 ,  画像 ,  被覆 ,  広帯域 ,  光起電力
準シソーラス用語： 有機太陽電池 ,  垂直入射 ,  *全方向 ,  *シリカナノ粒子 ,  *反射防止 ,  *有機光起電力素子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 反射防止コーティング ,  中空シリカナノ粒子 ,  低屈折率 ,  有機太陽電池 ,  テープ

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (6件)： 有機光起電素子 ,  反射防止 ,  中空 ,  シリカナノ粒子 ,  方向性 ,  光吸収