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J-GLOBAL ID：201802282878653036   整理番号：18A0151196

ボリン酸触媒前駆体を用いたヒドロシラン類を用いるホスフィンオキシド,スルホキシド及びN-オキシド類の金属フリー還元【Powered by NICT】

Metal-Free Reduction of Phosphine Oxides, Sulfoxides, and N-Oxides with Hydrosilanes using a Borinic Acid Precatalyst

著者 (4件)： Chardon Aurelien (Laboratoire de Chimie Moleculaire et Thio-organique, ENSICAEN, Universite de Caen Basse-Normandie, CNRS, 6 boulevard du Marechal Juin, 14050, Caen, France) ,  Maubert Orianne (Laboratoire de Chimie Moleculaire et Thio-organique, ENSICAEN, Universite de Caen Basse-Normandie, CNRS, 6 boulevard du Marechal Juin, 14050, Caen, France) ,  Rouden Jacques (Laboratoire de Chimie Moleculaire et Thio-organique, ENSICAEN, Universite de Caen Basse-Normandie, CNRS, 6 boulevard du Marechal Juin, 14050, Caen, France) ,  Blanchet Jerome (Laboratoire de Chimie Moleculaire et Thio-organique, ENSICAEN, Universite de Caen Basse-Normandie, CNRS, 6 boulevard du Marechal Juin, 14050, Caen, France)
資料名： Chemcatchem  (Chemcatchem)
巻： 9  号： 24  ページ： 4460-4464  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2356A  ISSN： 1867-3880  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ホスフィンオキシド,スルホキシド,及びアミンN-オキシドの一般的な減少はフェニルシランとビス(2-クロロフェニル)ボリン酸を組み合わせることにより達成された。反応は広範囲の基質を許容することが示され,温和な条件下で,容易に合成した触媒のわずか2.5mol%であった。反応機構の研究から,重要な水素化ホウ素実触媒と触媒前駆体としてビス(2-クロロフェニル)ボリン酸でを指摘した。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 基質 ,  *触媒 ,  *スルホキシド ,  水素化 ,  還元 ,  反応機構 ,  アミン ,  *ホスフィンオキシド ,  ホウ素
準シソーラス用語： *アミンオキシド ,  *ヒドロシラン ,  *触媒前駆体 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ほう素 ,  ヒドロシラン ,  oxides ,  反応機構 ,  reduction

分類 (4件)： 不均一系触媒反応  (CB06100E) ,  貴金属触媒  (CB06122I) ,  酸化,還元  (CF02060T) ,  その他の触媒  (CB06123Z)

物質索引 (2件)： フェニルシラン ,  ボリン

タイトルに関連する用語 (8件)： ボリン ,  酸触媒 ,  前駆体 ,  ヒドロシラン類 ,  ホスフィンオキシド ,  スルホキシド ,  N-オキシド ,  還元