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J-GLOBAL ID：201802282972670697   整理番号：18A1233308

光および熱応答性[2]ロタキサン型分子ラチェットの構築

著者 (5件)： 廣瀬敬治 (大阪大 大学院) ,  小野田知恵 (大阪大 大学院) ,  高林亮 (大阪大 大学院) ,  岡田静 (大阪大 大学院) ,  戸部義人 (大阪大 大学院)
資料名： 日本化学会春季年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 98th  ページ： ROMBUNNO.1PA-109  発行年： 2018年03月06日 
JST資料番号： S0493B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 分子ラチェットを創出するために,環サイズが光や熱により縮小拡大する環成分と,ステーションを二つ有し,異なる二つのストッパーが結合した軸成分を組み合わせた[2]ロタキサンを合成した。環分子の熱拡大反応速度が近接するストッパーの構造により変化することを用いれば,光照射と加熱の繰り返しにより環成分が一方のステーションに優先的に集まる。本発表ではこのロタキサンの合成と動的挙動について報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： 化学合成 ,  *ロタキサン ,  ラチェット【機械要素】 ,  クラウンエーテル ,  *光照射 ,  *環化反応 ,  *開環反応 ,  ストッパ ,  分子構造 ,  分子素子 ,  *立体障害 ,  電子効果 ,  熱応答
準シソーラス用語： 熱応答性 ,  分子シャトル ,  立体電子効果

分類 (4件)： 分子化合物  (CE02000C) ,  脂肪族エーテル  (CF03100V) ,  環化反応,開環反応  (CF02050I) ,  分子の幾何学的構造一般  (BH05021S)

物質索引 (2件)： 3,5-ビス(トリイソプロピルシリル)安息香酸4-[[4-[4-[[3,5-ビス(トリフェニルシリル)フェニル]カルバモイルオキシメチル]ベンジルアミノメチル]-2,5-ジメチルベンジル]アミノメチル]ベンジル ,  9,9′-エチレン-10,10′-[5-ブロモ-2-(イソプロピルオキシ)-1,3-フェニレンビス(メチレンオキシエチレンオキシエチレンオキシ)]ビス(アントラセン)

タイトルに関連する用語 (5件)： 熱応答性 ,  ロタキサン ,  分子 ,  ラチェット ,  構築