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J-GLOBAL ID：201802283733728979   整理番号：18A0800608

フェノール除去のための親水性表面改質剤高分子修飾ポリ(エーテルスルホン)光触媒膜の調製とキャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】

Preparation and characterization of hydrophilic surface modifier macromolecule modified poly (ether sulfone) photocatalytic membrane for phenol removal

著者 (18件)： Salim Noor Elyzawerni (Advanced Membrane Technology Research Centre, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Salim Noor Elyzawerni (Faculty of Chemical and Energy Engineering, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Jaafar Juhana (Advanced Membrane Technology Research Centre, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Jaafar Juhana (Faculty of Chemical and Energy Engineering, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Ismail A.F. (Advanced Membrane Technology Research Centre, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Ismail A.F. (Faculty of Chemical and Energy Engineering, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Othman M.H.D. (Advanced Membrane Technology Research Centre, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Othman M.H.D. (Faculty of Chemical and Energy Engineering, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Rahman Mukhlis A. (Advanced Membrane Technology Research Centre, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Rahman Mukhlis A. (Faculty of Chemical and Energy Engineering, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Yusof N. (Advanced Membrane Technology Research Centre, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Yusof N. (Faculty of Chemical and Energy Engineering, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Qtaishat M. (Chemical Engineering Department, University of Jordan, Amman 19942, Jordan) ,  Matsuura T. (Industrial Membrane Research Laboratory, Department of Chemical Engineering, University of Ottawa, Canada) ,  Aziz F. (Advanced Membrane Technology Research Centre, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Aziz F. (Faculty of Chemical and Energy Engineering, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Salleh W.N.W. (Advanced Membrane Technology Research Centre, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia) ,  Salleh W.N.W. (Faculty of Chemical and Energy Engineering, Universiti Teknologi Malaysia, 81310 Skudai, Johor Bahru, Malaysia)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 335  ページ： 236-247  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸素化グラファイト窒化炭素(OGCN)光触媒(PES/OGCN-LSMM)を組み込んだ親水性表面改質高分子(LSMM)による改質ポリ(エーテルスルホン)(PES)をハイブリッド光触媒膜として成功裏に調製した。光触媒と分離によるフェノール除去性能のためのPES/OGCN-LSMMハイブリッド膜の望ましい特性を提供するために,膜製造時の溶媒蒸発時間の影響をLSMMの位置決めに焦点を当てて研究した。PES/OGCN-LSMM膜は,溶媒蒸発時間が増加するにつれて接触角の減少した値を示した。SEM画像は,0~4分の溶媒蒸発時間で膜に形成された指状構造により支持された密な上部層を明らかにしたが,5分の溶媒蒸発時間でスポンジ状の微小ボイド構造が観察された。蒸発時間が増加するにつれて,純粋な水フラックスは緻密な高密度膜の結果として減少することを強調することは興味深い。混合により上方に移動する傾向があるLSMMの特殊な特徴に適合することにより,LSMMは膜の上部層にOGCN光触媒を効果的に支援した。これは,より多くのOGCN光触媒粒子が,膜トポロジー解析により支持されたより長い溶媒蒸発時間において,膜の密な上部層上に分布していることが,SEMトップ表面画像により明らかにされた。除去と光触媒試験によるフェノール還元は5分の溶媒蒸発時間で最も高く,一方水フラックスは最も低いことが分かった。得られた結果は,LSMMが膜の上部層へのOGCNの位置決めを実際に支援し,その結果,フェノール上の膜の光触媒活性を増加させることを示した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 接触角 ,  *高分子 ,  上層 ,  蒸発 ,  グラファイト ,  *表面改質 ,  *親水性 ,  *キャラクタリゼーション ,  *光触媒 ,  画像 ,  フェノール類
準シソーラス用語： 光触媒活性 ,  水フラックス ,  溶媒蒸発 ,  窒化炭素 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 水処理 ,  光触媒 ,  膜技術 ,  フェノール ,  窒化炭素 ,  表面修飾高分子

分類 (3件)： 下水,廃水の化学的処理  (SC03050W) ,  触媒操作  (XE01050T) ,  光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (1件)： フェノール

タイトルに関連する用語 (10件)： フェノール除去 ,  親水性 ,  改質剤 ,  高分子 ,  修飾 ,  エーテル ,  スルホン ,  光触媒膜 ,  調製 ,  キャラクタリゼーション