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J-GLOBAL ID：201802284102729189   整理番号：18A0271851

多孔質脆性超低k誘電体薄膜の機械的性質を測定するための新しい三層ナノインデンテーション法【Powered by NICT】

A novel tri-layer nanoindentation method to measure the mechanical properties of a porous brittle ultra-low-k dielectric thin film

著者 (8件)： Du Yingjie (Department of Mechanical Engineering, The University of Texas at Dallas, Richardson, TX 75080, USA) ,  Xu Tingge (Department of Mechanical Engineering, The University of Texas at Dallas, Richardson, TX 75080, USA) ,  Shaw Thomas M. (IBM TJ Watson Research Center, 1101 Kitchawan Rd, Yorktown Heights, NY 10598, USA) ,  Liu Xiao Hu (IBM TJ Watson Research Center, 1101 Kitchawan Rd, Yorktown Heights, NY 10598, USA) ,  Bonilla Griselda (IBM TJ Watson Research Center, 1101 Kitchawan Rd, Yorktown Heights, NY 10598, USA) ,  Li Han (IBM TJ Watson Research Center, 1101 Kitchawan Rd, Yorktown Heights, NY 10598, USA) ,  Li Han (Logic Technology Development, Intel Corporation, Hillsboro, OR 97124, USA) ,  Lu Hongbing (Department of Mechanical Engineering, The University of Texas at Dallas, Richardson, TX 75080, USA)
資料名： Extreme Mechanics Letters  (Extreme Mechanics Letters)
巻： 13  ページ： 100-107  発行年： 2017年 
JST資料番号： W3055A  ISSN： 2352-4316  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二多孔質超低k(ULK)誘電体薄膜(多孔質炭素をドープした二酸化けい素(pSiCOH);およびオクタメチルシクロテトラシロキサン(OMCTS))の機械的性質をナノインデンテーションにより測定した。薄くてもろいULK膜を用いたナノインデンテーションチップの直接接触が膜に損傷を誘導するであろう,その機械的応答を変化させるので,ULK膜上に直接ナノインデンテーションで測定した機械的性質は使用条件におけるULK薄膜の挙動を表すとは限らない。この困難を回避するために,新規な三層配置を試料調製に用いた。この方法では,オルトケイ酸テトラエチル(TEOS)シリカの薄層がULK薄膜上に堆積したナノ圧子先端との直接接触からそれを保護した。ナノインデンターチップはナノインデンテーション中の層状膜上のTEOS被覆と接触し,収集したデータは,有限要素解析により解析した。Ogden hyperfoamモデルをシミュレーションにULK膜の構成則として用い,適切であることが分かった。結果は,線形弾性モデルは非常に小さな歪にしか適用できないことを示した。大きいひずみにおいてULK膜は圧縮下での多孔質ULK材料の緻密化に起因する非線形挙動を示した。pSiCOHとOMCTS誘電体膜の弾性率は2.6GPaと5.2GPaであった。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *薄膜 ,  *多孔性 ,  *ナノインデンテーション ,  *機械的性質 ,  ドーピング ,  弾性係数 ,  被覆 ,  緻密化 ,  二酸化ケイ素 ,  *誘電体薄膜 ,  試料調製 ,  *脆性
準シソーラス用語： 有限要素解析 ,  ナノプローブ ,  *低k誘電体 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 超低k ,  薄膜 ,  三層 ,  ナノインデンテーション ,  有限要素解析 ,  Hyperfoamモデル

分類 (1件)： 固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (6件)： 多孔質 ,  脆性 ,  低k誘電体 ,  薄膜 ,  機械的性質 ,  ナノインデンテーション