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J-GLOBAL ID:201802285304843038   整理番号:18A0270874

NiAl基板上のAl-Ni合金液滴の溶解性ぬれの分子動力学シミュレーション【Powered by NICT】

Molecular dynamics simulations on dissolutive wetting of Al-Ni alloy droplets on NiAl substrate
著者 (10件):
資料名:
巻: 75  ページ: 51-58  発行年: 2017年 
JST資料番号: W3224A  ISSN: 1876-1070  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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NiAl(100)基板上に純AlとAl-Ni合金液滴の反応性および非反応性濡れを数値的に調べた。埋込原子法ポテンシャルはAl-Ni系の原子間相互作用を説明するために適用した。結果はAl-Ni合金液滴は低い平衡接触角を持っているので,基板の上でそれらの拡散は純Al液滴よりもわずかに速くなることを示した。しかし,緩和基板上に原子相互拡散効果により,液滴に基板からのNi原子の溶解増強を対照として剛体基板を用いた拡散を著しく加速さであろう。,純Al液滴はその対応する最も遠いからの平衡濃度は90%Al-10%Ni液滴と80%Al-20%Ni液滴が続くによる最速の速度で広がる拡大が得られた。強化された広がり速度は溶解による接触線の近傍で減少したバルク粘性散逸と局所散逸に起因した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
分類
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膜流,液滴,気泡,キャビテーション  ,  固-液界面 

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