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J-GLOBAL ID：201802285804760056   整理番号：18A0401940

透明加熱ガラスのための芳香族ポリイミド上の直接描画グラフェン抵抗器【Powered by NICT】

Direct-write graphene resistors on aromatic polyimide for transparent heating glass

著者 (13件)： Wu Dezhi (Department of Mechanical & Electrical Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China) ,  Deng Lei (School of Aerospace Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China) ,  Mei Xuecui (Department of Mechanical & Electrical Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China) ,  Teh Kwok Siong (School of Engineering, San Francisco State University, San Francisco 94132, USA) ,  Cai Weihua (Department of Mechanical Engineering, University of California at Berkeley, CA 94720, USA) ,  Tan Qiulin (Science and Technology on Electronic Test and Measurement Laboratory, North University of China, Tai Yuan 030051, China) ,  Zhao Yang (Department of Mechanical & Electrical Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China) ,  Wang Lingyun (Department of Mechanical & Electrical Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China) ,  Zhao Libo (School of Mechanical Engineering, Xi’an Jiaotong Univeristy, Xi’an, China) ,  Luo Guoxi (School of Mechanical Engineering, Xi’an Jiaotong Univeristy, Xi’an, China) ,  Sun Daoheng (Department of Mechanical & Electrical Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China) ,  Lin Liwei (Department of Mechanical & Electrical Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China) ,  Lin Liwei (Department of Mechanical Engineering, University of California at Berkeley, CA 94720, USA)
資料名： Sensors and Actuators. A. Physical  (Sensors and Actuators. A. Physical)
巻： 267  ページ： 327-333  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0345C  ISSN： 0924-4247  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,ガラス基板上にスピンコートした芳香族ポリイミド(PI)薄膜を照射しCO_2レーザによる直接描画グラフェン抵抗器のためのスケーラブルなプロセスを報告した。XYステージの助けを借りて,抵抗パターンを制御し,透明ヒータとして設計できる。Raman,SEM,TEM,XRDおよびA FMを用いて材料特性評価は機能的構造を検証するために行った。レーザ出力密度はグラフェン構造の2.833×10~ 4Ωmの最高抵抗率値を達成するために1.6mm/sの走査速度で7.27kw/cm~2として最適化されている。線幅のような得られたグラフェン抵抗パターンに走査速度とパルス幅に及ぼす影響も最適化直接描画プロセスに関して検討した。走査速度とパルス幅はそれぞれ1.6mm/sと357μsに設定した場合,平均線幅は約120μmであった。実験的に,このようなレーザ照射したグラフェンは電気透明加熱ガラスとして使用できることが実証された,異なる線幅とギャップは加熱温度,熱分布と透過率に大きな影響を与える。線幅とギャップ距離は,それぞれ4×4cm~2カバーガラス上の120μmと2mmであった場合には,加熱器1分でガラス基板上に92°Cの温度を生成することができる。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 最適化 ,  レーザ ,  *グラフェン ,  *ガラス ,  レーザ照射 ,  *抵抗器 ,  透過率 ,  *芳香族ポリイミド ,  電気抵抗率 ,  スピンコーティング ,  パルス幅
準シソーラス用語： 線幅 ,  走査速度 ,  ガラス基板 ,  *直接描画 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： レーザ ,  芳香族ポリイミド膜 ,  グラフェン ,  透明加熱ガラス

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： ガラス ,  芳香族ポリイミド ,  直接描画 ,  グラフェン ,  抵抗器