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J-GLOBAL ID:201802286151216504   整理番号:18A0650569

炭化ケイ素の特性に及ぼす高温高圧アニーリングの影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Influence of Annealing on the Properties of Silicon Carbide at High Temperature and High Pressure Condition
著者 (5件):
資料名:
巻: 46  号: 10  ページ: 2073-2076  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0398A  ISSN: 1000-985X  CODEN: RJXUEN  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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CVDによって製造した炭化ケイ素を原料として、高温高圧下で焼なまし処理を行い、焼なまし温度が炭化ケイ素の性能に及ぼす影響を検討した。実験結果は以下を示す。アニーリング温度の増加により,炭化ケイ素の色は浅い緑色から無色に変化した。体積は明らかに縮小し,密度は増加した。焼鈍後に,炭化ケイ素の圧縮強さは著しく増加し,機械的強度は増加した。焼なまし後のSiC構造は変化せず、15R-SiCは798.6cm-1にピーク強度が減少し、4H-SiCは970cm-1のRamanピーク強度が増強された。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
著者キーワード (3件):
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半導体-金属接触 
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