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J-GLOBAL ID:201802286604502631   整理番号:18A1085743

超ワイドバンドギャップ半導体β-Ga2O3単結晶の成長ブレークスルー2インチ【JST・京大機械翻訳】

Ultra-wide Bandgap Semiconductorβ-Ga2O3 Single Crystal Growth Breaks through 2 Inches
著者 (10件):
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巻: 46  号: 12  ページ: 2533-2534  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0398A  ISSN: 1000-985X  CODEN: RJXUEN  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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酸化ガリウム(β-Ga2O3)単結晶は4世代超ワイドバンドギャップ酸化物半導体であり、そのバンドギャップ幅は4.84.9eVである。独特の紫外線透過特性(吸収カットオフ端260nm)を持つ。破壊電界強度は8MV/cmに達し,Siのほぼ27倍,SiC及びGaNの2倍以上であり,バリーの最適値はそれぞれSiC,GaNの10倍,4倍以上であった。軍事、エネルギー、医療、環境などの分野で重要な応用価値のため、近年、酸化ガリウム材料とデバイスの研究と応用は、現在アメリカ、日本、ドイツなどの国家の研究焦点と競争の重点となっている。中国はβ-Ga2O3結晶材料とデバイスに関する研究が遅れており、特にパワーデバイスと光電子デバイスの研究は少ない。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
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トランジスタ 
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