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J-GLOBAL ID：201802286897331602   整理番号：18A1189678

H_2NSOおよびsyn-およびanti-HNSOHラジカルの分光学的同定【JST・京大機械翻訳】

Spectroscopic Identification of H₂NSO and syn- and anti-HNSOH Radicals

著者 (8件)： Dong Xuelin (College of Chemistry, Chemical Engineering and Materials Science, Soochow University, Suzhou, 215123, China) ,  Deng Guohai (College of Chemistry, Chemical Engineering and Materials Science, Soochow University, Suzhou, 215123, China) ,  Wu Zhuang (College of Chemistry, Chemical Engineering and Materials Science, Soochow University, Suzhou, 215123, China) ,  Xu Jian (College of Chemistry, Chemical Engineering and Materials Science, Soochow University, Suzhou, 215123, China) ,  Lu Bo (College of Chemistry, Chemical Engineering and Materials Science, Soochow University, Suzhou, 215123, China) ,  Trabelsi Tarek (Department of Chemistry, University of Nebraska-Lincoln, Lincoln, NE, 68588, USA) ,  Francisco Joseph S. (Department of Chemistry, University of Nebraska-Lincoln, Lincoln, NE, 68588, USA) ,  Zeng Xiaoqing (College of Chemistry, Chemical Engineering and Materials Science, Soochow University, Suzhou, 215123, China)
資料名： Angewandte Chemie  (Angewandte Chemie)
巻： 130  号： 25  ページ： 7635-7639  発行年： 2018年 
JST資料番号： A0396A  ISSN： 0044-8249  CODEN： ANCEAD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最も単純なアミノスルフィニルラジカルH_2NSOは,約1000KでCF_3S(O)NH_2のフラッシュ真空熱分解により気相で生成した。UV光照射(365nm)において,1,3-H移動はH_2NSO中で起こり,低温マトリックス(N_2又はAr,15K)中でsyn及びanti立体配座におけるN-アミジルラジカルHNSOHを与えた。さらに266nmのレーザ照射により,HNSOHのH2OとSNへの解離,および痕跡量のH_2NSOの同時再形成が生じた。マトリックス分離IR分光法によるH_2NSO,syn-HNSOH,およびanti-HNSOHの同定は,高レベル量子化学計算によって支持される。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *立体配座 ,  レーザ照射 ,  紫外線 ,  赤外分光法 ,  気相 ,  マトリックス分離
準シソーラス用語： 量子化学計算 ,  低温マトリックス ,  フラッシュ真空熱分解 ,  *分光学 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： IR-Spekroskopie ,  マトリックス分離 ,  光化学 ,  放射線 ,  Schwefel-Stickstoff-Verbindungen

分類 (1件)： 酸化,還元  (CF02060T)

タイトルに関連する用語 (1件)： ラジカル