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J-GLOBAL ID:201802287597318597   整理番号:18A0401436

フォトニック応用のためのGaN成長させたHVPEとMOCVDの多層多孔質構造【Powered by NICT】

Multilayer porous structures of HVPE and MOCVD grown GaN for photonic applications
著者 (10件):
資料名:
巻: 102  ページ: 221-234  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0600B  ISSN: 0749-6036  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,水素化物気相エピタクシー(HVPE)および有機金属化学気相蒸着(MOCVD)成長させたGaN中の多層多孔質構造を作製するための電気化学的プロセスの比較研究を報告した。HVPE成長GaNにおける,多層多孔質構造は,結晶成長中にドーピングの微細調節をもたらす自己組織化過程により得られることが分かった。しかし,これらのプロセスは,制御下で全体的にされていない。制御設計を持つ多層多孔質構造をMOCVDで成長させた試料中の電気化学エッチングの技術プロセスを最適化することにより,交互ドーピングプロファイルを持った薄い層の五対で構成した。試料を光学反射スペクトルの計算のための開発した方法によるSEM画像,光ルミネセンス分光法,微小反射率測定によって特性化し,転送行列解析とシミュレーションにより達成されてきた。Bragg反射器の設計のための生成した構造の適用性を実証した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  酸化物薄膜 

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