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J-GLOBAL ID：201802287700650959   整理番号：18A1346247

曲線への直交射影のための二次アルゴリズムに関する収束解析【JST・京大機械翻訳】

Convergence Analysis on a Second Order Algorithm for Orthogonal Projection onto Curves

著者 (6件)： Li Xiaowu (College of Data Science and Information Engineering, Guizhou Minzu University, Guiyang 550025, China) ,  Wang Lin (College of Data Science and Information Engineering, Guizhou Minzu University, Guiyang 550025, China) ,  Wu Zhinan (School of Mathematics and Computer Science, Yichun University, Yichun 336000, China) ,  Hou Linke (Center for Economic Research, Shandong University, Jinan 250100, China) ,  Liang Juan (Department of Science, Taiyuan Institute of Technology, Taiyuan 030008, China) ,  Li Qiaoyang (Center for the World Ethnic Studies, Guizhou Minzu University, Guiyang 550025, China)
資料名： Symmetry (Web)  (Symmetry (Web))
巻： 9  号： 10  ページ： 210  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7282A  ISSN： 2073-8994  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 点投影と逆問題に関して,曲線と表面への直交射影のための古典的アルゴリズムを,HuとWallner(2005)によって提示した。本論文の目的は,射影アルゴリズムの収束解析を与えることである。点投影問題に関して,著者らは,それが二次収束であり,平面パラメータ曲線上に点を投影するための初期値に依存しないという形式的証明を与えた。一方,点逆問題に対しては,それが3次収束で,初期値に依存しない形式的証明を与える。Copyright 2018 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *アルゴリズム ,  *曲線 ,  逆問題 ,  *射影
準シソーラス用語： 収束解析 ,  初期値 ,  *直交射影 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： ポイント投影 ,  平面パラメトリック曲線 ,  二次収束 ,  3次収束

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

引用文献 (35件)：

• Limaiem, A.; Trochu, F. Geometric algorithms for the intersection of curves and surfaces. Comput. Graph. 1995, 19, 391-403.
• Li, X.; Wu, Z.; Hou, L.; Wang, L.; Yue, C.; Xin, Q. A geometric orthogonal projection strategy for computing the minimum distance between a point and a spatial parametric curve. Algorithms 2016, 9, 15.
• Pottmann, H.; Leopoldseder, S.; Hofer, M. Registration without ICP. Comput. Vis. Image Underst. 2004, 95, 54-71.
• Hu, S.M.; Wallner, J. A second order algorithm for orthogonal projection onto curves and surfaces. Comput. Aided Geom. Des. 2005, 22, 251-260.
• Piegl, L.A.; Tiller, W. Parameterization for surface fitting in reverse engineering. Comput. Aided Des. 2001, 33, 593-603.

タイトルに関連する用語 (4件)： 曲線 ,  直交射影 ,  アルゴリズム ,  収束解析