文献

J-GLOBAL ID：201802288974404395   整理番号：18A0643022

疎水性超低屈折率膜材料をゾル-ゲル法により調製した。【JST・京大機械翻訳】

Sol-gel Preparation of Hydrophobic Silica Coating-materials with Ultralow Refractive Index

著者 (7件)： He Meiying (四川大学化学学院,緑色化学与技術教育部重点実験室,成都610064) ,  Luo Jianhui (中国石油勘探開発研究院采油工程研究所,北京100083;中国包装総公司納米化学重点実験室,北京100083) ,  Yang Bowen (四川大学化学学院,緑色化学与技術教育部重点実験室,成都610064) ,  Xia Bibo (四川大学化学学院,緑色化学与技術教育部重点実験室,成都610064) ,  Li Yuanyang (四川大学化学学院,緑色化学与技術教育部重点実験室,成都610064) ,  Zhang Shuming (四川大学化学学院,緑色化学与技術教育部重点実験室,成都610064) ,  Jiang Bo (四川大学化学学院,緑色化学与技術教育部重点実験室,成都610064)
資料名： Gaodeng Xuexiao Huaxue Xuebao  (Gaodeng Xuexiao Huaxue Xuebao)
巻： 38  号： 11  ページ： 2077-2081  発行年： 2017年 
JST資料番号： C2116A  ISSN： 0251-0790  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： テトラエチルオルトシリカート(TEOS)とメチルトリエトキシシラン(MTES)を前駆体とし、ヒドロキシプロピル-β-シクロデキストリン(HPCD)を孔形成剤とし、水とエタノールを溶剤とし、アンモニアを触媒とし、ゾル-ゲル法によりHPCD-SiO2ゾルを調製した。ヘキサメチルジシラザン(HMDS)により修飾した後に,疎水性超低屈折率膜が得られ,その最低屈折率は1.05に達し,静的水接触角は66.4°から128.7°に増加した。ヒドロキシプロピル-β-シクロデキストリンを孔形成剤として用いて得られた膜の孔径は約4nmであるため、膜層は孔径が光波長の1/4に近いため、散乱を引き起こさない。従来のポロポロキサマー(F127)と比較して,ヒドロキシプロピル-β-シクロデキストリンは,高い孔効率と低い屈折率の利点を有し,鋳型の分野において広い応用展望を有する。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 触媒 ,  前駆体 ,  アンモニア ,  *屈折率 ,  *疎水性 ,  二酸化ケイ素 ,  脂肪族アルコール
準シソーラス用語： 水接触角 ,  孔形成 ,  ヒドロキシプロピル-β-シクロデキストリン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Ultralow refractive index ,  Sol-gel method ,  Hydrophobic ,  Hydroxypropyl-β-cyclodextrin

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (2件)： ヒドロキシプロピル-β-シクロデキストリン ,  エタノール

タイトルに関連する用語 (6件)： 疎水性 ,  低屈折率 ,  膜材料 ,  ゾル ,  ゲル ,  調製