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J-GLOBAL ID：201802290089998524   整理番号：18A0006674

新しい材料の探索・創成・開発~分子・物質合成プラットフォームの紹介~(上)不活性ガス中での有機素子作製および測定

著者 (1件)： 下谷秀和 (東北大 大学院理学研究科)
資料名： 金属  (Materials Science & Technology)
巻： 88  号： 1  ページ： 10-14  発行年： 2018年01月01日 
JST資料番号： F0157A  ISSN： 0368-6337  CODEN： KNZKA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 東北大学では,雰囲気に敏感な有機半導体素子の作製およびその特性評価を不活性雰囲気中で実施できるシステムを構築した。本稿では,このシステムおよび研究例を紹介した。有機半導体素子の酸素・水によって受ける影響,アルゴン雰囲気下有機半導体素子作製・測定システム,有機半導体多結晶薄膜トランジスタの作製と測定(目的,素子作製,測定),ならびに有機半導体単結晶トランジスタの作製と測定(目的,素子作製,測定)について記した。

シソーラス用語： *有機半導体 ,  *製造 ,  *計測 ,  雰囲気 ,  アルゴン ,  薄膜トランジスタ ,  単結晶 ,  *半導体素子測定
準シソーラス用語： *半導体素子製造

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (9件)： 探索 ,  創成 ,  開発 ,  分子 ,  物質 ,  プラットフォーム ,  不活性ガス ,  有機素子 ,  作製