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J-GLOBAL ID：201802290872584336   整理番号：18A1790418

Ar/O₂ループ型誘導熱プラズマを用いたSi基板の高速表面酸化の数値解析モデルと基板の掃引速度依存性

著者 (8件)： 大関元紀 (金沢大) ,  藤田敦士 (金沢大) ,  土谷拓光 (金沢大) ,  田中康規 (金沢大) ,  上杉喜彦 (金沢大) ,  石島達夫 (金沢大) ,  幸本徹哉 (シー・ヴィ・リサーチ) ,  川浦廣 (シー・ヴィ・リサーチ)
資料名： 電気関係学会北陸支部連合大会講演論文集(CD-ROM)  (Joint Conference of Hokuriku Chapters of Electrical Societies (CD-ROM))
巻： 2018  ページ： ROMBUNNO.A1-1  発行年： 2018年09月08日 
JST資料番号： L2176B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *熱プラズマ ,  *酸化 ,  *ウエハ【IC】 ,  速度 ,  数学モデル
準シソーラス用語： *Si基板 ,  数値解析モデル ,  掃引速度 ,  *表面酸化 ,  *誘導熱プラズマ

分類 (2件)： プリント回路  (NA05040O) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (9件)： Ar ,  O2 ,  ループ ,  誘導熱プラズマ ,  Si基板 ,  表面酸化 ,  数値解析モデル ,  掃引 ,  速度依存性