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J-GLOBAL ID：201802292102574855   整理番号：18A0152379

深紫外直接パターン形成により形成されたナノスケール強磁性コバルトドープZnO構造【Powered by NICT】

Nanoscale Ferromagnetic Cobalt-Doped ZnO Structures Formed by Deep-UV Direct-Patterning

著者 (6件)： Yeh Chun-Cheng (Institut de Science des Materiaux de Mulhouse (IS2M), CNRS - UMR 7361, Universite de Haute Alsace, 15 rue Jean Starcky, Mulhouse, 68057, France) ,  Colis Silviu (IPCMS - Departement de Chimie et des Materiaux Inorganiques (DCMI), CNRS - UMR 7504, Universite de Strasbourg, 23 Rue du Loess, Strasbourg, 67200, France) ,  Fioux Philippe (Institut de Science des Materiaux de Mulhouse (IS2M), CNRS - UMR 7361, Universite de Haute Alsace, 15 rue Jean Starcky, Mulhouse, 68057, France) ,  Zan Hsiao-Wen (Department of Photonics and Institute of Electro-Optical Engineering, National Chiao Tung University, Hsinchu, Taiwan, 30010, Republic of China) ,  Berling Dominique (Institut de Science des Materiaux de Mulhouse (IS2M), CNRS - UMR 7361, Universite de Haute Alsace, 15 rue Jean Starcky, Mulhouse, 68057, France) ,  Soppera Olivier (Institut de Science des Materiaux de Mulhouse (IS2M), CNRS - UMR 7361, Universite de Haute Alsace, 15 rue Jean Starcky, Mulhouse, 68057, France)
資料名： Advanced Materials Interfaces  (Advanced Materials Interfaces)
巻： 4  号： 22  ページ： ROMBUNNO.201700738  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2484A  ISSN： 2196-7350  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： コバルト(II)アセテートは,メタクリル酸亜鉛(ZnMAA)と混合した光パターン形成可能なCoドープ亜鉛酸化物前駆体を形成した。深紫外(DUV)干渉リソグラフィーを用いて,CoドープZnMAA前駆体はネガ型レジストとしてパターン化し,熱処理後の強磁性Co:ZnO膜に変換することができる。さらに,300nm線幅の小さいCo:ZnOパターンが容易に得られる。CoドープZnMAA前駆体から誘導したCo:ZnO膜に対するDUVパターン形成プロセスと熱アニーリングの影響を徹底的に理解するために,異なる条件で調製したCo:ZnO膜で行った光学的,磁気的,および電気的特性評価。DUVパターン形成なしで調製したCo:ZnO膜では,大きな零磁場冷却(ZFC)-磁場中冷却(FC)不可逆性は,真空アニーリング後の超伝導量子干渉デバイス測定で出現し,Coクラスタは膜内に形成されたことを示した。一方,ZFC-FC分岐は,真空アニーリング後DUVパターン化したCo:ZnO膜で観測できず,ZnO格子内のCoイオン分布の均一性は,DUVパターン形成により改善されることを示唆した。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： SQUID ,  *強磁性 ,  焼なまし ,  前駆体 ,  *ドーピング ,  クラスタ ,  電気的性質 ,  *酸化亜鉛 ,  不可逆性 ,  *パターン形成
準シソーラス用語： ゼロ磁場冷却 ,  熱アニーリング ,  線幅 ,  *ナノスケール ,  *深紫外線 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 希薄磁性半導体 ,  ドーピング ,  nanostructure ,  光パターン形成 ,  ZnO

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 深紫外 ,  パターン形成 ,  ナノスケール ,  強磁性 ,  コバルト ,  ドープ ,  ZnO